一、硅片清洗設備維修方法有哪些
1、換能器損壞：
分析：可(ke)能硅片清洗設備因長時間處于(yu)開機使用狀(zhuang)態，溫度會逐漸上(shang)升導致膠體融化換能器(qi)脫落或換能器(qi)陶瓷部分斷裂。
檢測和解決：用(yong)搖表測量換(huan)能器(qi)的絕緣強(qiang)度，絕緣強(qiang)度在200MΩ以下(xia)已無法使用(yong)，須換(huan)新的換(huan)能器(qi)。
換能器(qi)的(de)內(nei)部陶瓷也會由于長期(qi)使用出現斷(duan)裂(lie)，使其不能正常工作。
2、硅片清洗設備的保險損壞：
在開機后如發現無電(dian)源(yuan)顯示，無動作，首(shou)先(xian)要看電(dian)源(yuan)座內(nei)保(bao)險是(shi)否損壞。
分析(xi)：有(you)(you)可(ke)能是用戶接(jie)(jie)地(di)線與火(huo)線或零線混用，并(bing)沒有(you)(you)接(jie)(jie)地(di)（本機(ji)地(di)線是與機(ji)器外殼(ke)相連接(jie)(jie)），還有(you)(you)可(ke)能是硅片清洗設備短路，元器件老化出現(xian)短路現(xian)象，導致保險損壞。
檢測和解決：拿出保險觀看，有無(wu)斷(duan)裂，用萬(wan)用表通斷(duan)檔測量是否斷(duan)開，更換(huan)新器件。
3、硅片清洗設備的功率管損壞：
分析：主(zhu)板上(shang)的功率(lv)(lv)管會因為超(chao)聲波清(qing)洗機(ji)長(chang)時(shi)間(jian)不間(jian)斷使(shi)用或清(qing)洗液體太少長(chang)時(shi)間(jian)使(shi)用，使(shi)功率(lv)(lv)管出現短路(lu)情況。
檢(jian)測(ce)和(he)解(jie)決：當功率(lv)(lv)管(guan)在(zai)主(zhu)板(ban)上連(lian)接式，用(yong)(yong)萬用(yong)(yong)表(biao)測(ce)量(liang)功率(lv)(lv)管(guan)兩側管(guan)腳的阻(zu)值，正(zheng)常情(qing)況下應(ying)在(zai)22Ω左(zuo)右。拿(na)下功率(lv)(lv)管(guan)后（與主(zhu)板(ban)斷開連(lian)接），測(ce)量(liang)其各個(ge)管(guan)腳間應(ying)是(shi)不通的。
二、硅片清洗設備怎么保養
硅片清洗的重要性想必大家是很清楚的，而清洗后硅片表面的各種性能在一定程度上又由清洗設備本身決定，因此，對硅片清洗設備的日常(chang)監控和維護就尤為重(zhong)要。
1、進(jin)(jin)行日常的(de)生產時，首(shou)先需準(zhun)備少量潔凈的(de)硅片（如10片），每天(tian)在進(jin)(jin)行正(zheng)常的(de)硅片清(qing)洗(xi)(xi)(xi)前(qian)，對(dui)該(gai)(gai)10個桂片進(jin)(jin)行清(qing)洗(xi)(xi)(xi)，且(qie)在清(qing)洗(xi)(xi)(xi)前(qian)后對(dui)該(gai)(gai)硅片進(jin)(jin)行表面顆(ke)粒的(de)檢測(ce)(ce)，然后對(dui)測(ce)(ce)試結果進(jin)(jin)行分析。
如(ru)果發現清(qing)(qing)洗(xi)(xi)后硅(gui)片(pian)(pian)表面的顆粒數(shu)跟(gen)金(jin)(jin)屬(shu)沾污(wu)較(jiao)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)前(qian)減少(shao)或無(wu)明顯變化，則表面清(qing)(qing)洗(xi)(xi)設備工作(zuo)正常，可以進(jin)行正常的硅(gui)片(pian)(pian)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)；如(ru)果發現清(qing)(qing)洗(xi)(xi)后硅(gui)片(pian)(pian)表面顆粒數(shu)跟(gen)金(jin)(jin)屬(shu)沾污(wu)較(jiao)清(qing)(qing)洗(xi)(xi)前(qian)明顯增加，則表明清(qing)(qing)洗(xi)(xi)機工作(zuo)異常，需進(jin)行相應的維護。
針對此工作也可以根據(ju)生產的具體情況對其即(ji)進(jin)行SPC控制，即(ji)：顆粒去除數(shu)(shu)(shu)=清(qing)洗后顆粒數(shu)(shu)(shu)-清(qing)洗前顆粒數(shu)(shu)(shu)
2、硅片在清洗過程中，如發現(xian)硅片表(biao)面顆粒跟金(jin)屬沾污超(chao)標，則需(xu)進行如下處理：
（1）將(jiang)各(ge)槽中(zhong)原液排干(gan)，用(yong)DI水(shui)將(jiang)槽子沖(chong)洗一次，然(ran)后將(jiang)槽中(zhong)水(shui)排盡。
（2）加入少許（lgallon）DI水(shui)，然(ran)后(hou)加入lgal-lonH2O2，再加入少許DI水(shui)，然(ran)后(hou)加工(gong)入lgallonNH4OH，再加DI水(shui)至槽滿(man)。如果是工(gong)藝(yi)槽，則(ze)讓混(hun)合液循環2h，否則(ze)靜置2h。
（3）將(jiang)槽中液(ye)排(pai)盡，用DI水再次沖洗槽子一次，將(jiang)槽液(ye)排(pai)盡。
（4）重新對(dui)清洗設備(bei)進行測(ce)試。
