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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅片清洗(xi)(xi)機是利(li)用超(chao)聲(sheng)波(bo)清洗(xi)(xi)技術,在(zai)清洗(xi)(xi)過(guo)程中超(chao)聲(sheng)波(bo)頻率在(zai)合理(li)的(de)范圍(wei)內往(wang)復掃動,帶動清洗(xi)(xi)液形成細(xi)微(wei)回流,使(shi)工(gong)件污垢在(zai)被超(chao)聲(sheng)剝離(li)的(de)同時迅(xun)速帶離(li)工(gong)件表面,提高清洗(xi)(xi)效率。

具體的原(yuan)理(li)有以下:

1、真(zhen)空(kong)脫(tuo)氣,有效(xiao)去除液體中氣體,且運用(yong)拋(pao)動功能,增強超聲(sheng)對工件表面油污和污垢的清洗能力(li),縮短清洗時間。

2、洗籃轉(zhuan)動機構(gou),重疊不可分拆的(de)零件或形狀(zhuang)復雜的(de)零件,也可做(zuo)到均(jun)勻完整的(de)清洗。

3、減壓(ya)真空(kong)系(xi)統(tong),能吸出盲(mang)孔、縫隙及疊加零(ling)件之間的空(kong)氣(qi),使超聲波在減壓(ya)的狀態下產生驚人的清洗(xi)效果。

4、真(zhen)空蒸汽(qi)清洗(xi)+真(zhen)空干(gan)燥系統,利用(yong)蒸汽(qi)洗(xi)凈做(zuo)養護,完美實(shi)現清洗(xi)效果。

5、蒸汽清洗(xi)、干(gan)燥及清洗(xi)液(ye)加(jia)熱的全過程(cheng)在減壓真空(kong)中進行,更有效地確(que)保了安全性(xing)。

6、防(fang)爆配件及簡潔(jie)加熱系統(tong),進(jin)一步提(ti)高安全度。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清洗工件放入(ru)料(liao)框內專(zhuan)用固定(ding)(ding)夾(jia)內,由人工將料(liao)框放上入(ru)料(liao)口,等工位(wei)機械手自動(dong)將料(liao)框送(song)入(ru)清洗機本體,上下提升機構依照(zhao)PLC指定(ding)(ding)的(de)程(cheng)序將料(liao)框搬送(song)到(dao)相(xiang)應高度位(wei)置。

2、完成對工件的(de)清(qing)洗、噴淋、漂(piao)洗、慢提拉脫水和熱風(feng)干燥后、送至清(qing)洗機出口,運送到卸(xie)料臺出料,等(deng)工位機械(xie)手由氣缸橫向(xiang)(xiang)驅動,直線(xian)滑(hua)軌導向(xiang)(xiang)。

3、上(shang)下提(ti)升由(you)馬達(da)驅(qu)動,直線(xian)導軸導向(xiang),慢提(ti)拉提(ti)升機構由(you)變頻馬達(da)驅(qu)動,直線(xian)滑塊(kuai)導向(xiang),上(shang)下料由(you)上(shang)下提(ti)升機構獨(du)立(li)完成,采用(yong)觸摸屏(ping)操作系(xi)統,有手動和(he)自動切換開關(guan)及(ji)有關(guan)操作按鈕,能對整個運行過程實(shi)行控制。

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