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硅片清洗機工作原理是什么 硅片清洗機操作說明

本文章由注冊用戶 淺嘗不止— 上傳提供 2023-07-20 評論 0
摘要:半導體器件生產中硅片須經嚴格清洗,即使是微量污染也會導致器件失效。清洗的目的在于清除表面污染雜質,包括有機物和無機物。這些雜質有的以原子狀態或離子狀態,有的以薄膜形式或顆粒形式存在于硅片表面。接下來本文將簡單介紹硅片清洗機工作原理是什么以及硅片清洗機操作說明,一起到文中來看看吧!

一、硅片清洗機工作原理是什么

硅片(pian)清(qing)洗(xi)機是利用超(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)清(qing)洗(xi)技術,在(zai)清(qing)洗(xi)過程(cheng)中(zhong)超(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)波(bo)頻(pin)率在(zai)合理的范圍內往復掃動(dong),帶動(dong)清(qing)洗(xi)液形成細微回流,使(shi)工件污垢在(zai)被(bei)超(chao)聲(sheng)(sheng)(sheng)剝離的同時迅速帶離工件表面(mian),提高清(qing)洗(xi)效率。

具體的(de)原(yuan)理有以下:

1、真(zhen)空脫氣,有效去除液體中(zhong)氣體,且運用拋(pao)動功(gong)能(neng),增強(qiang)超聲對工件表面油污(wu)和污(wu)垢的清洗(xi)能(neng)力,縮短清洗(xi)時(shi)間。

2、洗(xi)籃轉動機(ji)構,重疊不可分(fen)拆(chai)的零件(jian)或(huo)形狀復(fu)雜的零件(jian),也可做到(dao)均勻完整的清洗(xi)。

3、減壓(ya)真(zhen)空(kong)系(xi)統,能吸出盲孔、縫隙及疊加零件之間(jian)的空(kong)氣,使超聲波在減壓(ya)的狀態下產生驚人的清洗效果。

4、真(zhen)空(kong)蒸汽清洗(xi)+真(zhen)空(kong)干燥系統(tong),利用蒸汽洗(xi)凈做(zuo)養護,完(wan)美實(shi)現清洗(xi)效果。

5、蒸(zheng)汽清(qing)洗、干(gan)燥及清(qing)洗液(ye)加(jia)熱的全(quan)過程在(zai)減(jian)壓真(zhen)空(kong)中進行,更(geng)有效地確保了(le)安全(quan)性。

6、防(fang)爆配件(jian)及簡潔加(jia)熱系(xi)統,進一步(bu)提高安全度。

該圖片由注冊用戶"淺嘗不止—"提供,版權聲明反饋

二、硅片清洗機操作說明

1、欲清(qing)洗工(gong)件放入(ru)料框內專用(yong)固定(ding)夾內,由人工(gong)將料框放上(shang)入(ru)料口,等工(gong)位(wei)機(ji)械手自動(dong)將料框送(song)入(ru)清(qing)洗機(ji)本體,上(shang)下(xia)提(ti)升機(ji)構依照PLC指定(ding)的(de)程序(xu)將料框搬送(song)到相(xiang)應高度位(wei)置。

2、完成對(dui)工件的清(qing)(qing)洗、噴(pen)淋、漂洗、慢提拉脫水和熱(re)風干燥后、送至清(qing)(qing)洗機出口,運送到(dao)卸(xie)料臺出料,等(deng)工位(wei)機械(xie)手由氣缸橫向驅動,直(zhi)線滑(hua)軌(gui)導向。

3、上下提升(sheng)由(you)馬(ma)達驅(qu)動(dong),直線(xian)導(dao)軸(zhou)導(dao)向,慢提拉提升(sheng)機構(gou)由(you)變(bian)頻馬(ma)達驅(qu)動(dong),直線(xian)滑塊(kuai)導(dao)向,上下料由(you)上下提升(sheng)機構(gou)獨立(li)完成,采用觸(chu)摸(mo)屏操作系統,有(you)手動(dong)和自動(dong)切換開關及有(you)關操作按鈕,能(neng)對整個(ge)運行過程實行控(kong)制。

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