一、ITO濺射靶材的制作方法

1、真空熱壓

真空熱壓利用熱能和機械能對ITO粉體進行致密化，可生產出密度為91%~96%的高密度ITO陶瓷靶材。該方法可以輕松獲得接近預期密度且孔隙率接近于零的ITO靶材。但受設備和模具尺寸的限制，真空熱壓在制備大尺寸濺射靶材方面優勢較小。

2、熱等靜壓

熱(re)等靜壓（HIP）通過(guo)在(zai)(zai)壓力(li)下(xia)燒結或在(zai)(zai)高溫下(xia)加(jia)(jia)壓來制備(bei)ITO濺射靶。與(yu)真空熱(re)壓類似，HIP在(zai)(zai)加(jia)(jia)熱(re)和(he)加(jia)(jia)壓狀態下(xia)可以獲得高密度(du)（幾乎是(shi)理論密度(du)）和(he)優異的(de)物理和(he)機械性能的(de)產(chan)品。但也受設備(bei)壓力(li)和(he)氣缸尺寸的(de)限制。

3、常溫燒結

室溫燒(shao)結是先通過漿料(liao)澆注或預(yu)壓(ya)制(zhi)備高密度靶材預(yu)制(zhi)件，然后在一定氣氛和溫度下(xia)燒(shao)結得(de)到ITO靶材。其最大的(de)優(you)勢在于能(neng)夠生(sheng)產(chan)大尺(chi)寸的(de)濺(jian)射靶材。但與其他燒(shao)結方法相比，這種(zhong)方法制(zhi)成的(de)靶材純度較(jiao)低。

4、冷等靜壓

冷等靜壓(ya)（CIP）在(zai)常溫下以(yi)橡膠或塑料為(wei)(wei)覆膜材料，以(yi)液體為(wei)(wei)壓(ya)力介(jie)質傳遞超(chao)高壓(ya)。CIP還可以(yi)制(zhi)備更大(da)(da)尺(chi)寸的(de)ITO濺(jian)射靶(ba)材。而且價格便宜，適合(he)大(da)(da)批量生產。但CIP要(yao)求材料在(zai)0.1~0.9MPa的(de)純氧環境中經(jing)過1500~1600°C的(de)高溫燒結，具有(you)較高的(de)風險。

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二、ITO濺射靶材生產難點

1、粉末制備

粉(fen)(fen)末冶金最核心的(de)(de)競爭力就是粉(fen)(fen)體(ti)，能夠獨立生產高(gao)品質穩定的(de)(de)粉(fen)(fen)體(ti)的(de)(de)公司(si)，會在(zai)未來(lai)占有(you)一席之地。

2、大尺寸燒結工藝

ITO靶材的(de)另一個難點就是(shi)燒結(jie)(jie)工(gong)藝，精準的(de)燒結(jie)(jie)工(gong)藝是(shi)燒結(jie)(jie)高(gao)品質靶材的(de)關(guan)鍵。燒結(jie)(jie)工(gong)藝細分為(wei)真空熱壓(ya)(ya)法、熱等靜(jing)壓(ya)(ya)法、常(chang)壓(ya)(ya)燒結(jie)(jie)法。目前(qian)高(gao)端顯示(shi)器用(yong)鍍(du)膜靶材主要采用(yong)常(chang)壓(ya)(ya)燒結(jie)(jie)法，性價比(bi)高(gao)。

3、成本投入較大

ITO生產中需要使用非常多的大(da)型設備，如冷壓機，大(da)型模(mo)壓機，燒結爐，加工(gong)設備及(ji)綁定設備，每一項的投(tou)入都非常大(da)。整廠的設備投(tou)入預計在5000萬以(yi)上（年(nian)產50噸），且因為(wei)是能耗大(da)戶，日常的能源(yuan)消耗也是非常可觀的，運營(ying)維護(hu)成(cheng)本也比較高。

4、產品的驗證

如何能夠自主的驗證產品是(shi)(shi)否符合客戶(hu)的使用需求，是(shi)(shi)產品能否一(yi)次(ci)通(tong)過客戶(hu)驗證并且順利(li)導入生產的關鍵因素，所以企業自己配套綁定(ding)檢測(ce)設備及鍍膜機(ji)就(jiu)是(shi)(shi)保證。