一、靶材的分類有哪些

1、根據不同材質劃分

（1）金屬靶材

鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦(yin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯(gao)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁(lv)硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅(gui)(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金(jin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔(yi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹鋼(gang)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬(mu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢(wu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、W等。

（2）陶瓷靶材

ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鎂(mei)(mei)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫(liu)化(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)(er)鈮(ni)(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)(er)(er)硼化(hua)(hua)(hua)(hua)鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三(san)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鎢靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三(san)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)(er)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)(er)鉭，五(wu)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)(er)(er)鈮(ni)(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)鎂(mei)(mei)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟化(hua)(hua)(hua)(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒化(hua)(hua)(hua)(hua)鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮化(hua)(hua)(hua)(hua)鋁靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)硼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮化(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳化(hua)(hua)(hua)(hua)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮(ni)(ni)酸(suan)鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鐠靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鋇靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺(jian)射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材等(deng)。

（3）合金靶材

鐵(tie)鈷靶(ba)(ba)FeCo、鋁(lv)硅(gui)靶(ba)(ba)AlSi、鈦硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鉻硅(gui)靶(ba)(ba)CrSi、鋅(xin)鋁(lv)靶(ba)(ba)ZnAl、鈦鋅(xin)靶(ba)(ba)材TiZn、鈦鋁(lv)靶(ba)(ba)TiAl、鈦鋯靶(ba)(ba)TiZr、鈦硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鈦鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)TiNi、鎳(nie)(nie)鉻靶(ba)(ba)NiCr、鎳(nie)(nie)鋁(lv)靶(ba)(ba)NiAl、鎳(nie)(nie)釩(fan)靶(ba)(ba)NiV、鎳(nie)(nie)鐵(tie)靶(ba)(ba)NiFe等。

2、根據不同應用方向劃分

（1）半導體關聯靶材

電極(ji)、布(bu)線薄膜：鋁(lv)(lv)靶(ba)(ba)(ba)材，銅靶(ba)(ba)(ba)材，金靶(ba)(ba)(ba)材，銀靶(ba)(ba)(ba)材，鈀靶(ba)(ba)(ba)材，鉑(bo)靶(ba)(ba)(ba)材，鋁(lv)(lv)硅合金靶(ba)(ba)(ba)材，鋁(lv)(lv)硅銅合金靶(ba)(ba)(ba)材等。

儲(chu)存(cun)器電極薄膜(mo)：鉬靶(ba)材，鎢靶(ba)材，鈦靶(ba)材等。

粘附薄(bo)膜：鎢靶材，鈦靶材等。

電容器絕緣(yuan)膜薄膜：鋯(gao)鈦(tai)酸鉛靶材等。

（2）磁記錄靶材

垂直磁記錄薄(bo)膜：鈷(gu)鉻(ge)合金靶(ba)材等。

硬盤用薄膜：鈷鉻鉭(tan)合金(jin)(jin)靶材，鈷鉻鉑(bo)合金(jin)(jin)靶材，鈷鉻鉭(tan)鉑(bo)合金(jin)(jin)靶材等。

薄膜(mo)磁頭：鈷(gu)鉭鉻(ge)合金靶材(cai)，鈷(gu)鉻(ge)鋯合金靶材(cai)等。

人(ren)工晶體薄膜：鈷鉑合金靶材(cai)，鈷鈀合金靶材(cai)等。

（3）光記錄靶材

相(xiang)變(bian)光(guang)盤記錄薄(bo)膜：硒(xi)化(hua)碲靶(ba)材，硒(xi)化(hua)銻靶(ba)材，鍺銻碲合金(jin)靶(ba)材，鍺碲合金(jin)靶(ba)材等。

磁光盤記錄(lu)薄膜(mo)：鏑(di)(di)鐵鈷合(he)金靶(ba)(ba)材(cai)，鋱鏑(di)(di)鐵合(he)金靶(ba)(ba)材(cai)，鋱鐵鈷合(he)金靶(ba)(ba)材(cai)，氧化(hua)(hua)鋁靶(ba)(ba)材(cai)，氧化(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)材(cai)，氮化(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)材(cai)等。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、靶材的性能和指標

靶材制(zhi)(zhi)約著濺(jian)鍍薄膜的物理，力學性能(neng)，影響(xiang)鍍膜質量，因而要求靶材的制(zhi)(zhi)備應滿足以下要求：

1、純(chun)度(du)(du)(du)：要求雜質含(han)量(liang)低純(chun)度(du)(du)(du)高，靶(ba)材的(de)(de)純(chun)度(du)(du)(du)影響薄膜(mo)的(de)(de)均勻性(xing)，以純(chun)Al靶(ba)為(wei)例(li)，純(chun)度(du)(du)(du)越高，濺射Al膜(mo)的(de)(de)耐蝕性(xing)及電學、光學性(xing)能越好。不(bu)過不(bu)同(tong)(tong)用途的(de)(de)靶(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)要求也(ye)不(bu)同(tong)(tong)，一般工(gong)業用靶(ba)材純(chun)度(du)(du)(du)要求不(bu)高，但就半導(dao)體(ti)、顯示器(qi)件(jian)等領域用靶(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)要求是十(shi)分嚴格的(de)(de)，磁性(xing)薄膜(mo)用靶(ba)材對純(chun)度(du)(du)(du)的(de)(de)要求一般為(wei)99.9%以上，ITO中的(de)(de)氧化(hua)銦以及氧化(hua)錫的(de)(de)純(chun)度(du)(du)(du)則要求不(bu)低于99.99%。

2、雜質(zhi)含(han)(han)量(liang)：靶材(cai)作為濺(jian)射(she)中的(de)(de)(de)陰極源(yuan)(yuan)，固體(ti)中的(de)(de)(de)雜質(zhi)和氣孔(kong)中的(de)(de)(de)O2和H2O是沉積(ji)薄(bo)膜的(de)(de)(de)主要污染源(yuan)(yuan)，不同(tong)用途的(de)(de)(de)靶材(cai)對單(dan)個(ge)雜質(zhi)含(han)(han)量(liang)的(de)(de)(de)要求(qiu)也不同(tong)，如：半導體(ti)電極布(bu)線用的(de)(de)(de)W，Mo，Ti等靶材(cai)對U，Th等放(fang)射(she)性元素的(de)(de)(de)含(han)(han)量(liang)要求(qiu)低(di)于(yu)3*10-9，光盤反(fan)射(she)膜用的(de)(de)(de)Al合金(jin)靶材(cai)則要求(qiu)O2的(de)(de)(de)含(han)(han)量(liang)低(di)于(yu)2*10-4。

3、高(gao)(gao)(gao)(gao)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)：為了(le)減(jian)少(shao)靶材(cai)(cai)(cai)中的(de)(de)(de)氣孔，提(ti)高(gao)(gao)(gao)(gao)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)性(xing)能一般要求靶材(cai)(cai)(cai)具有(you)較高(gao)(gao)(gao)(gao)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)，靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)不僅影(ying)響(xiang)濺射(she)時的(de)(de)(de)沉積(ji)速率(lv)、濺射(she)膜(mo)(mo)粒子的(de)(de)(de)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)和(he)(he)放(fang)電(dian)(dian)現象等，還(huan)影(ying)響(xiang)濺射(she)薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)電(dian)(dian)學(xue)和(he)(he)光學(xue)性(xing)能。致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)性(xing)越(yue)好，濺射(she)膜(mo)(mo)粒子的(de)(de)(de)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)越(yue)低(di)(di)，放(fang)電(dian)(dian)現象越(yue)弱。高(gao)(gao)(gao)(gao)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)靶材(cai)(cai)(cai)具有(you)導電(dian)(dian)、導熱性(xing)好，強度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)(gao)等優點，使用這種靶材(cai)(cai)(cai)鍍膜(mo)(mo)，濺射(she)功率(lv)小，成膜(mo)(mo)速率(lv)高(gao)(gao)(gao)(gao)，薄(bo)膜(mo)(mo)不易開(kai)裂，靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)使用壽命長，且(qie)濺鍍薄(bo)膜(mo)(mo)的(de)(de)(de)電(dian)(dian)阻率(lv)低(di)(di)，透光率(lv)高(gao)(gao)(gao)(gao)。靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)主要取決于制(zhi)備工藝。一般而言，鑄造靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)高(gao)(gao)(gao)(gao)而燒(shao)(shao)結靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)相對較低(di)(di)，因(yin)此(ci)提(ti)高(gao)(gao)(gao)(gao)靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)致(zhi)密(mi)(mi)(mi)(mi)度(du)(du)(du)是燒(shao)(shao)結制(zhi)備靶材(cai)(cai)(cai)的(de)(de)(de)技(ji)術(shu)關鍵之一。

4、成(cheng)分(fen)(fen)與(yu)組織結構均勻，靶(ba)材(cai)成(cheng)分(fen)(fen)均勻是鍍膜質(zhi)量穩(wen)定的(de)重要保證，尤(you)其是對于(yu)復相結構的(de)合(he)金靶(ba)材(cai)和混合(he)靶(ba)材(cai)。如ITO，為了保證膜質(zhi)量，要求(qiu)靶(ba)中In2O3-SnO2組成(cheng)均勻，都為93：7或(huo)91：9（分(fen)(fen)子比）。

5、晶粒尺寸細小，靶材的(de)晶粒尺(chi)寸越細小，濺鍍(du)薄(bo)膜的(de)厚度分布越均勻，濺射速率越快(kuai)。