一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真空鍍膜機上(shang)鍍膜用的，可(ke)鍍導(dao)電(dian)膜、絕緣膜、裝飾膜，超硬(ying)膜、潤滑膜、磁性(xing)膜等功能薄膜。

磁(ci)控濺(jian)(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)是一(yi)種新型(xing)的(de)物理(li)氣相鍍膜(mo)方式，就是用(yong)電子槍(qiang)系(xi)統把電子發射(she)并聚焦在被鍍的(de)材(cai)料上，使其(qi)被濺(jian)(jian)(jian)射(she)出來(lai)的(de)原(yuan)子遵循(xun)動(dong)量(liang)轉換原(yuan)理(li)以(yi)較(jiao)高的(de)動(dong)能脫離(li)材(cai)料飛向基片淀積(ji)成膜(mo)。這種被鍍的(de)材(cai)料就叫濺(jian)(jian)(jian)射(she)靶材(cai)。濺(jian)(jian)(jian)射(she)靶材(cai)有金屬，合(he)金，陶瓷化(hua)合(he)物等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)主要是由(you)靶(ba)(ba)坯(pi)、背(bei)板(ban)等部分(fen)構成(cheng)，靶(ba)(ba)坯(pi)屬(shu)于高速(su)離(li)子(zi)束流轟擊的目標材(cai)料(liao)，是核心部分(fen)，在(zai)濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)鍍膜(mo)(mo)的過(guo)程(cheng)中(zhong)，靶(ba)(ba)坯(pi)被離(li)子(zi)撞擊后，表面(mian)原子(zi)被濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)飛(fei)散出來并(bing)沉積于基板(ban)上制(zhi)成(cheng)電子(zi)薄膜(mo)(mo)。因為(wei)高純度金屬(shu)強度較低，可是濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)需要安裝在(zai)專用的機臺內(nei)(nei)完(wan)成(cheng)濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)過(guo)程(cheng)，機臺內(nei)(nei)部為(wei)高電壓(ya)、高真空環境，所以超高純金屬(shu)的濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)坯(pi)需要與背(bei)板(ban)通(tong)過(guo)不同的焊接工藝進(jin)行接合，背(bei)板(ban)主要起到了固定濺(jian)(jian)(jian)射(she)(she)靶(ba)(ba)材(cai)的作用，以及良好的導(dao)電、導(dao)熱性能。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲(chu)、液(ye)晶顯示屏、激光(guang)存儲(chu)器(qi)、電子控(kong)制器(qi)件等；亦可應用于玻(bo)璃(li)鍍膜(mo)領域；還(huan)可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品(pin)等行業。