一、濺射靶材是什么

濺射靶材是(shi)安裝在真(zhen)空鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)機上鍍(du)膜(mo)(mo)(mo)用的，可鍍(du)導(dao)電膜(mo)(mo)(mo)、絕(jue)緣膜(mo)(mo)(mo)、裝飾膜(mo)(mo)(mo)，超硬膜(mo)(mo)(mo)、潤滑(hua)膜(mo)(mo)(mo)、磁性膜(mo)(mo)(mo)等功能(neng)薄膜(mo)(mo)(mo)。

磁控(kong)濺射(she)鍍膜(mo)是一種新型的(de)(de)物(wu)理(li)氣相鍍膜(mo)方(fang)式，就是用(yong)電子(zi)槍系統把(ba)電子(zi)發射(she)并聚焦(jiao)在(zai)被(bei)鍍的(de)(de)材料上(shang)，使其被(bei)濺射(she)出來(lai)的(de)(de)原子(zi)遵循動量(liang)轉(zhuan)換原理(li)以較高的(de)(de)動能脫(tuo)離材料飛(fei)向基片淀(dian)積成膜(mo)。這種被(bei)鍍的(de)(de)材料就叫濺射(she)靶材。濺射(she)靶材有金屬，合(he)金，陶瓷化(hua)合(he)物(wu)等。

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二、濺射靶材工作原理

濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)主(zhu)要(yao)(yao)是由靶(ba)(ba)坯(pi)、背板(ban)等部分(fen)構成，靶(ba)(ba)坯(pi)屬于高速離(li)子(zi)(zi)束流轟(hong)擊的(de)目標材(cai)(cai)料，是核(he)心(xin)部分(fen)，在濺(jian)(jian)射(she)鍍膜(mo)的(de)過程(cheng)中(zhong)，靶(ba)(ba)坯(pi)被(bei)離(li)子(zi)(zi)撞(zhuang)擊后(hou)，表(biao)面原子(zi)(zi)被(bei)濺(jian)(jian)射(she)飛散出來并沉積于基板(ban)上(shang)制成電(dian)(dian)子(zi)(zi)薄膜(mo)。因(yin)為(wei)高純度金屬強度較(jiao)低(di)，可是濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)需要(yao)(yao)安裝在專用的(de)機(ji)臺(tai)內(nei)完成濺(jian)(jian)射(she)過程(cheng)，機(ji)臺(tai)內(nei)部為(wei)高電(dian)(dian)壓、高真空環境，所以超高純金屬的(de)濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)坯(pi)需要(yao)(yao)與背板(ban)通(tong)過不同(tong)的(de)焊(han)接(jie)工(gong)藝進行接(jie)合，背板(ban)主(zhu)要(yao)(yao)起到了固(gu)定濺(jian)(jian)射(she)靶(ba)(ba)材(cai)(cai)的(de)作用，以及良好的(de)導(dao)(dao)電(dian)(dian)、導(dao)(dao)熱(re)性能(neng)。

三、濺射靶材的應用

濺射靶材主要(yao)應用(yong)于(yu)電子及信息產業(ye)，如集成(cheng)電路、信息存(cun)(cun)儲(chu)、液晶顯示屏、激光存(cun)(cun)儲(chu)器(qi)、電子控制(zhi)器(qi)件等(deng)；亦可應用(yong)于(yu)玻璃鍍膜領域；還可以應用(yong)于(yu)耐磨材(cai)料、高溫耐蝕(shi)、高檔裝飾用(yong)品等(deng)行業(ye)。