一、光刻機是干什么用的

光刻機是(shi)(shi)用來制造芯片(pian)的。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機又被(bei)稱(cheng)為掩(yan)膜對準曝光(guang)(guang)(guang)機，在芯片(pian)生(sheng)產中(zhong)用于光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工藝，而(er)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)工藝又是(shi)(shi)生(sheng)產流程中(zhong)最(zui)關鍵的一步，所以光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機又是(shi)(shi)芯片(pian)生(sheng)產中(zhong)不可缺(que)少的設備。

光刻機決定了芯片的精密尺寸(cun)，設(she)計(ji)師設(she)計(ji)好芯片線路，再通過(guo)光刻機將線路刻在芯片上(shang)，其尺度通常在微米(mi)級以上(shang)。

光刻機是芯(xin)片生產中最昂貴也是技術難度最大的設備(bei)，因為(wei)其決定了一塊芯(xin)片的整(zheng)體框架(jia)與功能。

其實生(sheng)產高精(jing)(jing)度芯(xin)(xin)片并不難(nan)，只是生(sheng)產速度太慢，而光刻機(ji)能快(kuai)速生(sheng)產高精(jing)(jing)度的芯(xin)(xin)片，所以很重要。

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二、光刻機的工作原理

利用(yong)(yong)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)機發出(chu)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)通過(guo)具有(you)圖(tu)形(xing)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)罩對涂有(you)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)(de)薄(bo)片曝光(guang)(guang)(guang)，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)見(jian)光(guang)(guang)(guang)后會(hui)發生性質變化，從而(er)使光(guang)(guang)(guang)罩上得(de)圖(tu)形(xing)復印(yin)(yin)到薄(bo)片上，從而(er)使薄(bo)片具有(you)電(dian)子(zi)線路(lu)(lu)圖(tu)的(de)(de)作(zuo)用(yong)(yong)。這就是(shi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)的(de)(de)作(zuo)用(yong)(yong)，類(lei)似照相機照相。照相機拍攝(she)的(de)(de)照片是(shi)印(yin)(yin)在底(di)片上，而(er)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)刻(ke)(ke)的(de)(de)不是(shi)照片，而(er)是(shi)電(dian)路(lu)(lu)圖(tu)和(he)其他電(dian)子(zi)元(yuan)件。

簡單點來說，光(guang)(guang)刻機(ji)就(jiu)是放(fang)大的(de)單反(fan)，光(guang)(guang)刻機(ji)就(jiu)是將光(guang)(guang)罩上的(de)設(she)計好集成(cheng)電路(lu)圖形(xing)通過(guo)光(guang)(guang)線的(de)曝光(guang)(guang)印(yin)到光(guang)(guang)感材料上，形(xing)成(cheng)圖形(xing)。

三、光刻機的性能指標

光刻機的(de)主要性能指標有：支持基片的(de)尺(chi)寸(cun)范圍，分辨率、對準(zhun)精(jing)度、曝(pu)光(guang)方式、光(guang)源(yuan)波長、光(guang)強均勻性、生產(chan)效(xiao)率等。

分(fen)(fen)辨率是對光(guang)刻工藝加工可(ke)以(yi)達到的(de)(de)最細線條(tiao)精度(du)的(de)(de)一種描述方(fang)式。光(guang)刻的(de)(de)分(fen)(fen)辨率受受光(guang)源衍射的(de)(de)限(xian)制(zhi)，所(suo)以(yi)與光(guang)源、光(guang)刻系統、光(guang)刻膠(jiao)和工藝等(deng)各方(fang)面的(de)(de)限(xian)制(zhi)。

對(dui)準精度(du)是(shi)在(zai)多層曝光時層間圖(tu)案的定位精度(du)。

曝光方式(shi)分(fen)為接觸接近(jin)式(shi)、投影(ying)式(shi)和直寫式(shi)。

曝光光源(yuan)波(bo)長分(fen)(fen)為紫(zi)(zi)外(wai)、深紫(zi)(zi)外(wai)和極紫(zi)(zi)外(wai)區域(yu)，光源(yuan)有汞燈，準分(fen)(fen)子激(ji)光器等。