一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就(jiu)是高(gao)速荷能(neng)粒(li)子(zi)轟擊的(de)(de)(de)(de)目標材(cai)料，用于高(gao)能(neng)激光武器(qi)中，不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)功(gong)率密度(du)、不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)輸出波形、不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)波長的(de)(de)(de)(de)激光與不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)相互作用時，會產生不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)(de)(de)殺傷破壞效應(ying)。例如：蒸發磁控濺射鍍膜(mo)是加熱蒸發鍍膜(mo)、鋁膜(mo)等。更換不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)(de)(de)靶(ba)(ba)材(cai)（如鋁、銅、不(bu)(bu)(bu)銹鋼(gang)、鈦(tai)、鎳靶(ba)(ba)等），即可得(de)到(dao)不(bu)(bu)(bu)同(tong)(tong)的(de)(de)(de)(de)膜(mo)系(xi)（如超硬、耐(nai)磨、防(fang)腐(fu)的(de)(de)(de)(de)合金膜(mo)等）。

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二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶(ba)材(cai)目前被(bei)普(pu)遍應用(yong)于平(ping)面顯示器(qi)（FPD)上(shang)。近年(nian)(nian)來，平(ping)面顯示器(qi)在市(shi)場(chang)上(shang)的應用(yong)率逐年(nian)(nian)增高，同(tong)時也帶(dai)動(dong)了(le)ITO靶(ba)材(cai)的技(ji)術與市(shi)場(chang)需(xu)求。ITO靶(ba)材(cai)有(you)兩種(zhong)，一種(zhong)是采(cai)用(yong)銦(yin)錫(xi)合金(jin)靶(ba)材(cai)，另外一種(zhong)是采(cai)用(yong)納米狀(zhuang)態的氧(yang)化(hua)(hua)銦(yin)和氧(yang)化(hua)(hua)錫(xi)粉混(hun)合后燒(shao)結。

2、用于微電子領域

靶(ba)材(cai)(cai)也被應用于(yu)半導(dao)體(ti)產(chan)業，相對來(lai)說半導(dao)體(ti)產(chan)業對于(yu)靶(ba)材(cai)(cai)濺射薄(bo)膜的(de)品質(zhi)要求(qiu)(qiu)是比較苛刻(ke)的(de)。現在(zai)12英寸（300衄口）的(de)硅晶(jing)片(pian)也被制(zhi)作(zuo)出來(lai)，但(dan)是互連線的(de)寬度(du)卻在(zai)減小。目前硅片(pian)制(zhi)造(zao)商對于(yu)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)要求(qiu)(qiu)都是大尺寸、高(gao)純度(du)、低偏(pian)析以及細晶(jing)粒等(deng)，對其品質(zhi)要求(qiu)(qiu)比較高(gao)，這就要求(qiu)(qiu)靶(ba)材(cai)(cai)需(xu)要具有更好(hao)的(de)微觀結構。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)(de)需求量(liang)(liang)很大(da)，高密度、大(da)容(rong)(rong)量(liang)(liang)硬盤(pan)(pan)的(de)(de)發展，離不開大(da)量(liang)(liang)的(de)(de)巨(ju)磁(ci)(ci)阻薄(bo)(bo)膜材(cai)(cai)料，CoF~Cu多層復合膜是如今應用(yong)比較廣(guang)泛(fan)的(de)(de)巨(ju)磁(ci)(ci)阻薄(bo)(bo)膜結構。磁(ci)(ci)光盤(pan)(pan)需要的(de)(de)TbFeCo合金靶材(cai)(cai)還在進一步發展，用(yong)它制(zhi)造出(chu)來(lai)的(de)(de)磁(ci)(ci)光盤(pan)(pan)有著(zhu)使用(yong)壽命長、存儲容(rong)(rong)量(liang)(liang)大(da)以(yi)及可反復無接觸擦寫的(de)(de)特點。