一、靶材是什么材料

靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高(gao)(gao)速荷能粒子轟擊的目標(biao)材料(liao)，用(yong)(yong)于高(gao)(gao)能激光武器中，不(bu)同(tong)(tong)功率(lv)密度、不(bu)同(tong)(tong)輸出波形、不(bu)同(tong)(tong)波長(chang)的激光與不(bu)同(tong)(tong)的靶材相互作用(yong)(yong)時，會產生(sheng)不(bu)同(tong)(tong)的殺傷破壞效應(ying)。例(li)如(ru)：蒸(zheng)發磁控濺射(she)鍍(du)膜(mo)(mo)是加熱蒸(zheng)發鍍(du)膜(mo)(mo)、鋁膜(mo)(mo)等。更換不(bu)同(tong)(tong)的靶材（如(ru)鋁、銅、不(bu)銹鋼(gang)、鈦、鎳靶等），即可得到不(bu)同(tong)(tong)的膜(mo)(mo)系(xi)（如(ru)超硬、耐磨、防腐的合(he)金膜(mo)(mo)等）。

該圖片由注冊用戶"天空之城"提供，版權聲明反饋

二、靶材的用途

1、用于顯示器上

靶(ba)材(cai)(cai)目(mu)前(qian)被普(pu)遍(bian)應(ying)用于平面(mian)顯示(shi)器（FPD)上。近年來(lai)，平面(mian)顯示(shi)器在市(shi)(shi)場(chang)上的(de)應(ying)用率逐年增高，同時(shi)也帶動了ITO靶(ba)材(cai)(cai)的(de)技術(shu)與市(shi)(shi)場(chang)需求。ITO靶(ba)材(cai)(cai)有兩種，一種是采(cai)用銦錫(xi)合金靶(ba)材(cai)(cai)，另(ling)外一種是采(cai)用納(na)米狀態的(de)氧化銦和(he)氧化錫(xi)粉混合后燒結。

2、用于微電子領域

靶(ba)材(cai)也被應用于半導(dao)體(ti)產(chan)業，相對(dui)來說(shuo)半導(dao)體(ti)產(chan)業對(dui)于靶(ba)材(cai)濺射薄膜(mo)的(de)(de)(de)品質(zhi)(zhi)要(yao)(yao)求是(shi)比較苛刻(ke)的(de)(de)(de)。現在12英寸（300衄口）的(de)(de)(de)硅晶片也被制作出來，但是(shi)互(hu)連(lian)線的(de)(de)(de)寬度(du)(du)卻在減小。目前(qian)硅片制造(zao)商對(dui)于靶(ba)材(cai)的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求都(dou)是(shi)大尺寸、高純度(du)(du)、低偏析以(yi)及細(xi)晶粒等，對(dui)其(qi)品質(zhi)(zhi)要(yao)(yao)求比較高，這就要(yao)(yao)求靶(ba)材(cai)需要(yao)(yao)具有更好的(de)(de)(de)微觀(guan)結構。

3、用于存儲技術上

存儲技術行業對于靶材的(de)需求量很大(da)，高密度、大(da)容量硬盤(pan)的(de)發展，離不(bu)開大(da)量的(de)巨磁(ci)阻薄膜(mo)材料，CoF~Cu多層復合(he)(he)膜(mo)是如今應用比較廣泛的(de)巨磁(ci)阻薄膜(mo)結(jie)構。磁(ci)光(guang)盤(pan)需要的(de)TbFeCo合(he)(he)金靶材還在(zai)進一步發展，用它制造出來的(de)磁(ci)光(guang)盤(pan)有著使用壽命長(chang)、存儲容量大(da)以及可反復無接觸擦寫的(de)特點。