一、光刻膠和光刻機有什么區別

光刻膠和光刻機的區別在于作用不同。光刻膠是一種有機化合物，成分是感光樹脂、增感劑和溶劑，它被紫外光曝光后，在顯影溶液中的溶解度會發生變化。硅片制造中所用的光刻膠以液態涂在硅片表面，而后被干燥成膠膜。光刻膠是微電(dian)子技術中微細圖形(xing)加工的關鍵材(cai)料(liao)之一，特別(bie)是近年來大(da)規(gui)模和(he)超大(da)規(gui)模集成(cheng)電(dian)路的發(fa)展，更是大(da)大(da)促進了光刻膠的研(yan)究(jiu)開發(fa)和(he)應用(yong)。而光刻機是制造(zao)芯片(pian)的核心(xin)裝備，采用類似照片(pian)沖印的技術，把掩(yan)膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到(dao)硅片(pian)上。

二、光刻膠和光刻機的關系

光刻膠是光刻機研發的重要材料，光刻機利(li)用特殊光線將集成電路映射(she)到硅(gui)(gui)片(pian)表(biao)面，并要避(bi)免在(zai)硅(gui)(gui)片(pian)表(biao)面留下痕跡，需要在(zai)硅(gui)(gui)片(pian)表(biao)面涂上一層特殊的物質：光刻膠。

光(guang)刻(ke)(ke)機和光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)的關(guan)系就(jiu)是：光(guang)刻(ke)(ke)機在晶(jing)圓(yuan)上用光(guang)源畫(hua)電(dian)路圖的時候，不直接畫(hua)圖，需要(yao)在晶(jing)圓(yuan)上涂抹(mo)一(yi)層液態的光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)，光(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)干燥后(hou)形成膠(jiao)膜，光(guang)刻(ke)(ke)機才開始畫(hua)圖作業。

簡單的說光刻膠是用于保護硅片的，光刻機是用來制作芯片的。光刻膠的性能指標要求極高，如感光的性能、抗蝕性、表面的張力等。目前光刻膠在芯片、面板、模(mo)擬半(ban)導體(ti)、發光二(er)極(ji)管(guan)及光子器(qi)件上都(dou)得(de)到了廣泛應(ying)用。