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光刻膠的組成成分有哪些 光刻膠的原理

本文章由注冊用戶 天空之城 上傳提供 2024-04-17 評論 0
摘要:光刻膠又稱光致抗蝕劑,在光刻工藝中,用作防腐蝕涂層材料。目前光刻膠廣泛用于光電信息產業的微細圖形線路加工制作,是電子制造領域關鍵材料。光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分組成,其原理包括光敏性原理、光學成像原理。

一、光刻膠的組成成分有哪些

光刻膠主(zhu)要由感光(guang)劑(光(guang)引發劑)、聚合劑(感光(guang)樹脂)、溶(rong)劑與助(zhu)劑構成。

1、光引發劑是光刻膠的最關鍵成分(fen),對光刻膠的感光度、分(fen)辨率(lv)起著決定性(xing)作用(yong)。

2、感光樹脂用于將光刻(ke)膠(jiao)中不同材(cai)料聚(ju)合(he)在一起,是構成光刻(ke)膠(jiao)的骨(gu)架,決定光刻(ke)膠(jiao)包(bao)括硬(ying)度、柔韌(ren)性、附著力等(deng)基本屬性。

3、溶劑(ji)是光刻(ke)膠中最大成分,目的是使光刻(ke)膠處于(yu)液態,但溶劑(ji)本身(shen)對光刻(ke)膠的化學性質幾乎沒(mei)影響(xiang)。

4、助劑通(tong)常是專有化合物,由各(ge)家廠商獨自研發(fa),主要用來改變光(guang)刻(ke)膠特定化學(xue)性質。

二、光刻膠的原理

1、光敏性原理

光刻(ke)(ke)膠(jiao)的(de)(de)基本(ben)原理是光敏材料暴露在紫(zi)外(wai)線(xian)下,光線(xian)將光敏材料中的(de)(de)分子激(ji)活,使其發生化學反(fan)應(ying),使光敏膠(jiao)發生預設的(de)(de)變(bian)化。根(gen)據光線(xian)能(neng)量的(de)(de)不(bu)同,光刻(ke)(ke)膠(jiao)可分為(wei)UV光刻(ke)(ke)膠(jiao)和深紫(zi)外(wai)光刻(ke)(ke)膠(jiao)。UV光刻(ke)(ke)膠(jiao)用于(yu)(yu)制(zhi)造(zao)(zao)精度(du)要(yao)求(qiu)低的(de)(de)電子元件,而深紫(zi)外(wai)光刻(ke)(ke)膠(jiao)則用于(yu)(yu)制(zhi)造(zao)(zao)更(geng)微(wei)小(xiao)的(de)(de)元器件。

2、光學成像原理

光刻膠是通過光學成像原理來實現預期的紋理結構。當光照射在光刻膠表(biao)面時,會通過掩膜上(shang)(shang)的(de)白色區(qu)(qu)域(yu)透過黑色區(qu)(qu)域(yu),達到將圖案映(ying)射(she)到光刻(ke)膠上(shang)(shang)的(de)目(mu)的(de)。通過開(kai)發過程(cheng),只剩下(xia)光刻(ke)膠上(shang)(shang)所需的(de)微型(xing)器件的(de)部分區(qu)(qu)域(yu),即可形成(cheng)要制造的(de)微型(xing)器件。

3、選擇適合的溶劑

光(guang)刻膠的(de)(de)(de)成(cheng)分包括光(guang)敏(min)材料、單體、溶(rong)劑(ji)和劑(ji)量。反(fan)應(ying)關鍵因素之一是(shi)選(xuan)擇適合系統(tong)的(de)(de)(de)溶(rong)劑(ji),溶(rong)劑(ji)是(shi)優化反(fan)應(ying)速(su)率和接觸角的(de)(de)(de)關鍵因素。正確的(de)(de)(de)溶(rong)劑(ji)選(xuan)擇可(ke)確保強大的(de)(de)(de)粘(zhan)附力和最小的(de)(de)(de)溶(rong)液浸透時間。

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