一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以(yi)做到90納米工藝。

之前有網友爆料，上海微電子(zi)將于(yu)2020年12月下(xia)線首(shou)臺采(cai)用ArF光源的SSA800/10W光刻機，這(zhe)是(shi)一(yi)臺國產浸沒(mei)式DUV 光刻機，可實現單次曝光28nm節點(dian)。所以網絡里一(yi)直(zhi)流傳著(zhu)這(zhe)個說(shuo)法。不過對于(yu)此消息，有人(ren)說(shuo)是(shi)真的，有人(ren)說(shuo)是(shi)假的。讓人(ren)很是(shi)迷糊。

上海微電子的確在做(zuo)可以(yi)實現28納米制程的國產DUV光刻機。只是是否通過驗收(shou)，到底(di)何時能交付，目(mu)前(qian)未知(zhi)。

28納米將(jiang)會是(shi)我們(men)國(guo)產光刻機的最高工藝水平，嚴格來說，這個(ge)真(zhen)的算不上高水平，它的前面還有14、7、5、3、2，甚至是(shi)1nm。

但是(shi)(shi)28納(na)米是(shi)(shi)成(cheng)熟工藝，生(sheng)產成(cheng)本低，只(zhi)要不追(zhui)求極致性能的情況下，這種制程的芯片，其性能也夠用的，用來生(sheng)產我們日常生(sheng)活中(zhong)的電(dian)子設備是(shi)(shi)沒(mei)有(you)問題的，例如電(dian)視(shi)、電(dian)視(shi)盒子、音響、電(dian)梯、空調、微波爐、冰(bing)箱、汽車等等。

另(ling)外，根據(ju)研究機構IC Insights發(fa)布的《2020-2024年全球(qiu)晶圓產能》報(bao)告，預計到2024年，半導體制(zhi)程(cheng)格局將出現10nm以下(xia)(xia)，10-20nm，20nm以上(shang)工(gong)藝(yi)三分天下(xia)(xia)的格局，各自市(shi)場占有(you)率(lv)約為1/3，而28nm以上(shang)的成熟工(gong)藝(yi)在未(wei)來四年的市(shi)場份(fen)額沒有(you)明顯(xian)變(bian)化，仍然(ran)有(you)很大(da)的市(shi)場，所以無需盲目地追(zhui)求制(zhi)程(cheng)工(gong)藝(yi)。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很多(duo)人(ren)疑惑，中國(guo)(guo)是(shi)世界上工(gong)業(ye)生(sheng)產能力(li)最(zui)強的(de)國(guo)(guo)家(jia)，為(wei)什么中國(guo)(guo)造(zao)不出高端的(de)光刻(ke)機(ji)？其(qi)實最(zui)大的(de)原因就是(shi)中國(guo)(guo)的(de)工(gong)業(ye)是(shi)多(duo)而不精(jing)。光刻(ke)機(ji)并不是(shi)一項技術(shu)的(de)突(tu)破(po)，而是(shi)一整個光學領(ling)域(yu)絕(jue)大多(duo)數技術(shu)的(de)突(tu)破(po)。

目前(qian)全球最頂尖的光刻機接(jie)近200噸，由差(cha)不多(duo)十萬個零件組成。其中絕大(da)多(duo)數都是(shi)核(he)心零件，每一個零件都需要(yao)很(hen)多(duo)技術的突破才(cai)能做出來。有工程師稱，里面(mian)一些零件需要(yao)打磨十年才(cai)能誕(dan)生(sheng)。

雖然最先進的(de)光刻機(ji)出(chu)自荷蘭(lan)，但荷蘭(lan)公(gong)司(si)也只是做一(yi)(yi)個(ge)組裝和調試的(de)工作(zuo)，里面的(de)核心零(ling)件來源于大多數(shu)西(xi)方國(guo)(guo)家。從(cong)美國(guo)(guo)到英國(guo)(guo)，從(cong)法國(guo)(guo)到比利時，所有站(zhan)在西(xi)方陣營(ying)的(de)國(guo)(guo)家合在一(yi)(yi)起(qi)，才能造出(chu)一(yi)(yi)臺最頂尖(jian)的(de)光刻機(ji)。所以中國(guo)(guo)要造最頂尖(jian)的(de)光刻機(ji)并不是在和某(mou)一(yi)(yi)個(ge)國(guo)(guo)家對抗，而是在和整(zheng)個(ge)西(xi)方世界(jie)對抗。

這就(jiu)好(hao)比(bi)班級考試(shi)，考試(shi)的(de)(de)(de)(de)(de)科(ke)目(mu)有(you)數百科(ke)。總(zong)成(cheng)績(ji)好(hao)點的(de)(de)(de)(de)(de)學生(sheng)(sheng)固然能考出一(yi)個比(bi)較高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)總(zong)成(cheng)績(ji)，但是(shi)這個學生(sheng)(sheng)不(bu)能讓自己每(mei)一(yi)科(ke)的(de)(de)(de)(de)(de)成(cheng)績(ji)都達(da)到最高(gao)(gao)。和他(ta)相比(bi)，那些成(cheng)績(ji)不(bu)好(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)學生(sheng)(sheng)雖(sui)然偏(pian)科(ke)，但是(shi)他(ta)們總(zong)有(you)一(yi)兩科(ke)自己擅長的(de)(de)(de)(de)(de)科(ke)目(mu)，這些科(ke)目(mu)總(zong)有(you)得高(gao)(gao)分(fen)甚至是(shi)滿分(fen)的(de)(de)(de)(de)(de)機會(hui)。這些學生(sheng)(sheng)最好(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)科(ke)目(mu)加(jia)起來，就(jiu)能組成(cheng)一(yi)個非(fei)常高(gao)(gao)的(de)(de)(de)(de)(de)“各科(ke)總(zong)成(cheng)績(ji)”。

要(yao)造出最頂端的(de)光(guang)刻機，就需(xu)要(yao)這(zhe)些科(ke)目每(mei)一顆都得(de)到極高的(de)分數甚至是滿分。所(suo)以(yi)(yi)中(zhong)國(guo)的(de)光(guang)刻機之路(lu)并不是突破幾(ji)項(xiang)新技術(shu)就能走穩、走好的(de)，中(zhong)國(guo)需(xu)要(yao)在整(zheng)(zheng)個光(guang)學(xue)技術(shu)上的(de)絕大多(duo)數技術(shu)中(zhong)得(de)到突破，才能以(yi)(yi)一個國(guo)家的(de)科(ke)技實力對抗(kang)整(zheng)(zheng)個西方社會。

很多人疑(yi)惑中國(guo)(guo)什(shen)么時候(hou)能造出最(zui)頂尖的(de)光刻機，這個問(wen)題的(de)答案沒(mei)有(you)(you)任何人能給出來。中國(guo)(guo)在光刻機領域遇到的(de)困(kun)難，和中國(guo)(guo)當(dang)年(nian)造原子(zi)彈時，沒(mei)有(you)(you)計算機，沒(mei)有(you)(you)離心(xin)機，沒(mei)有(you)(you)數據資料一(yi)樣困(kun)難。當(dang)年(nian)中國(guo)(guo)在美(mei)國(guo)(guo)造出原子(zi)彈接(jie)近(jin)(jin)9年(nian)后擁有(you)(you)了自己的(de)原子(zi)彈，中國(guo)(guo)現(xian)在打算大(da)力研制光刻機也是近(jin)(jin)兩(liang)年(nian)的(de)事(shi)情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是國(guo)際(ji)上2005年左右的光刻(ke)機最頂尖(jian)水(shui)(shui)平(ping)，差距在15年左右。所以很多人認為，我國(guo)應該會(hui)在十來年左右達到(dao)讓自己的光刻(ke)機達到(dao)國(guo)際(ji)社會(hui)的最頂尖(jian)水(shui)(shui)平(ping)。