一、中國光刻機現在多少納米

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機項目通過正式驗收。也就是說，我們的國產光刻機目前可以做到90納(na)米工藝。

之前有網(wang)友爆料(liao)，上海微電(dian)子(zi)將于2020年12月(yue)下(xia)線首臺采用ArF光(guang)源的SSA800/10W光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)，這(zhe)是(shi)一(yi)臺國產浸沒(mei)式DUV 光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)，可(ke)實(shi)現單次曝光(guang)28nm節點。所以網(wang)絡里(li)一(yi)直流傳(chuan)著這(zhe)個說法。不過(guo)對于此消息(xi)，有人(ren)(ren)說是(shi)真的，有人(ren)(ren)說是(shi)假的。讓人(ren)(ren)很是(shi)迷糊。

上(shang)海微電子的確在(zai)做可以實(shi)現28納米(mi)制(zhi)程的國產DUV光刻機。只是(shi)是(shi)否通過(guo)驗收，到(dao)底何時能(neng)交付，目前未知。

28納(na)米將會是我們國產(chan)光刻機的最高工藝(yi)水(shui)平，嚴格來說，這個(ge)真的算(suan)不上高水(shui)平，它的前(qian)面還有14、7、5、3、2，甚至是1nm。

但是28納(na)米是成熟工藝，生(sheng)產成本低，只要不追求(qiu)極致性能(neng)(neng)的(de)情況下，這種制程的(de)芯片，其性能(neng)(neng)也夠(gou)用的(de)，用來生(sheng)產我(wo)們(men)日(ri)常生(sheng)活中的(de)電(dian)子設備(bei)是沒有(you)問(wen)題的(de)，例(li)如電(dian)視、電(dian)視盒(he)子、音響、電(dian)梯、空(kong)調、微波爐、冰箱、汽車等等。

另(ling)外(wai)，根據(ju)研(yan)究機構(gou)IC Insights發布的(de)(de)《2020-2024年全球晶圓產能》報告(gao)，預計到2024年，半導體制(zhi)程(cheng)格局(ju)將(jiang)出現10nm以下，10-20nm，20nm以上工(gong)藝三分(fen)天下的(de)(de)格局(ju)，各(ge)自市(shi)場占有率約為1/3，而28nm以上的(de)(de)成熟工(gong)藝在未來(lai)四年的(de)(de)市(shi)場份額沒(mei)有明(ming)顯變化，仍然有很(hen)大的(de)(de)市(shi)場，所以無需盲目地追(zhui)求制(zhi)程(cheng)工(gong)藝。

二、中國高端光刻機什么時候能研制出來

很(hen)多人疑惑(huo)，中(zhong)國(guo)(guo)是(shi)世(shi)界上工業生產能力最(zui)強的(de)(de)(de)國(guo)(guo)家，為什么(me)中(zhong)國(guo)(guo)造不(bu)出高端的(de)(de)(de)光(guang)刻機？其(qi)實最(zui)大的(de)(de)(de)原因就(jiu)是(shi)中(zhong)國(guo)(guo)的(de)(de)(de)工業是(shi)多而不(bu)精(jing)。光(guang)刻機并不(bu)是(shi)一項技術(shu)(shu)的(de)(de)(de)突破，而是(shi)一整個光(guang)學領域絕(jue)大多數(shu)技術(shu)(shu)的(de)(de)(de)突破。

目前全(quan)球最頂尖(jian)的光刻機接近(jin)200噸，由差不(bu)多(duo)十萬個零(ling)件組(zu)成(cheng)。其中(zhong)絕(jue)大多(duo)數都是核心零(ling)件，每一(yi)個零(ling)件都需要(yao)很多(duo)技術的突破才(cai)能做出(chu)來。有(you)工程師稱，里面(mian)一(yi)些零(ling)件需要(yao)打(da)磨十年才(cai)能誕生。

雖然最先進的(de)(de)(de)光(guang)刻機出(chu)自荷(he)蘭，但荷(he)蘭公司也只是做一(yi)(yi)個組裝和(he)調試的(de)(de)(de)工作，里面的(de)(de)(de)核(he)心零件來源于大多(duo)數西方(fang)國(guo)(guo)家(jia)(jia)。從(cong)美國(guo)(guo)到英國(guo)(guo)，從(cong)法國(guo)(guo)到比利時，所(suo)有站在西方(fang)陣營的(de)(de)(de)國(guo)(guo)家(jia)(jia)合在一(yi)(yi)起，才(cai)能造出(chu)一(yi)(yi)臺最頂尖(jian)的(de)(de)(de)光(guang)刻機。所(suo)以中(zhong)國(guo)(guo)要(yao)造最頂尖(jian)的(de)(de)(de)光(guang)刻機并不是在和(he)某一(yi)(yi)個國(guo)(guo)家(jia)(jia)對(dui)抗，而是在和(he)整(zheng)個西方(fang)世界對(dui)抗。

這就好(hao)(hao)比班(ban)級考試，考試的(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)有數百(bai)科(ke)(ke)(ke)。總(zong)(zong)成(cheng)績好(hao)(hao)點的(de)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)固然(ran)能(neng)考出一(yi)個(ge)比較高(gao)的(de)總(zong)(zong)成(cheng)績，但是這個(ge)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)不能(neng)讓自(zi)己每一(yi)科(ke)(ke)(ke)的(de)成(cheng)績都達到最(zui)(zui)高(gao)。和他相比，那些(xie)成(cheng)績不好(hao)(hao)的(de)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)雖然(ran)偏科(ke)(ke)(ke)，但是他們總(zong)(zong)有一(yi)兩(liang)科(ke)(ke)(ke)自(zi)己擅長的(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)，這些(xie)科(ke)(ke)(ke)目(mu)總(zong)(zong)有得高(gao)分(fen)甚至是滿分(fen)的(de)機會。這些(xie)學(xue)(xue)生(sheng)(sheng)最(zui)(zui)好(hao)(hao)的(de)科(ke)(ke)(ke)目(mu)加起(qi)來，就能(neng)組成(cheng)一(yi)個(ge)非常(chang)高(gao)的(de)“各科(ke)(ke)(ke)總(zong)(zong)成(cheng)績”。

要(yao)造出(chu)最頂端的(de)(de)光刻(ke)(ke)機(ji)，就(jiu)需要(yao)這(zhe)些科目(mu)每(mei)一顆都得到(dao)極高的(de)(de)分(fen)數(shu)甚(shen)至(zhi)是滿分(fen)。所(suo)以(yi)中(zhong)國的(de)(de)光刻(ke)(ke)機(ji)之路(lu)并不是突破(po)(po)幾項(xiang)新技(ji)術(shu)就(jiu)能走穩、走好的(de)(de)，中(zhong)國需要(yao)在整個光學技(ji)術(shu)上的(de)(de)絕(jue)大(da)多數(shu)技(ji)術(shu)中(zhong)得到(dao)突破(po)(po)，才能以(yi)一個國家(jia)的(de)(de)科技(ji)實力對抗(kang)整個西方社(she)會(hui)。

很多(duo)人(ren)疑惑中國什么(me)時(shi)候能(neng)造(zao)出最頂尖的(de)(de)光刻機(ji)(ji)，這(zhe)個問題的(de)(de)答案沒(mei)有(you)任何人(ren)能(neng)給出來。中國在光刻機(ji)(ji)領域遇到的(de)(de)困難，和中國當年造(zao)原(yuan)子彈(dan)時(shi)，沒(mei)有(you)計算機(ji)(ji)，沒(mei)有(you)離心機(ji)(ji)，沒(mei)有(you)數據資料一(yi)樣困難。當年中國在美(mei)國造(zao)出原(yuan)子彈(dan)接(jie)近9年后擁有(you)了自己的(de)(de)原(yuan)子彈(dan)，中國現在打(da)算大(da)力研(yan)制(zhi)光刻機(ji)(ji)也是近兩年的(de)(de)事情。

就目前來說，我國最頂尖的光刻機也就是國(guo)際上2005年左右(you)的(de)(de)光(guang)刻(ke)機最(zui)頂尖水平(ping)，差距在15年左右(you)。所以很多人(ren)認(ren)為(wei)，我(wo)國(guo)應該(gai)會在十來年左右(you)達到讓自己的(de)(de)光(guang)刻(ke)機達到國(guo)際社會的(de)(de)最(zui)頂尖水平(ping)。