一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)致抗蝕(shi)劑，是指通過(guo)紫(zi)外光(guang)、電子束(shu)、離子束(shu)、X射線等的(de)(de)照射或輻射，其溶解度發生變(bian)化的(de)(de)耐蝕(shi)劑刻(ke)薄膜材料。由感(gan)光(guang)樹(shu)脂、增感(gan)劑和溶劑3種主要成(cheng)(cheng)分(fen)組(zu)成(cheng)(cheng)的(de)(de)對光(guang)敏感(gan)的(de)(de)混合液體。在光(guang)刻(ke)工(gong)藝過(guo)程中，用作抗腐蝕(shi)涂層(ceng)材料。半導(dao)體材料在表(biao)面(mian)加工(gong)時(shi)，若采(cai)用適當(dang)的(de)(de)有選擇性的(de)(de)光(guang)刻(ke)膠，可在表(biao)面(mian)上得到所需的(de)(de)圖像(xiang)。

二、光刻膠的作用

光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)是一大(da)類具有光(guang)(guang)(guang)(guang)敏(min)化學作(zuo)用(yong)（或(huo)對(dui)電子能量敏(min)感）的(de)高(gao)分子聚合物材料，是轉移紫(zi)外(wai)曝光(guang)(guang)(guang)(guang)或(huo)電子束曝照圖案的(de)媒(mei)介。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)英文(wen)名為(wei)resist，又翻(fan)譯為(wei)抗(kang)蝕(shi)劑、光(guang)(guang)(guang)(guang)阻等。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)作(zuo)用(yong)就是作(zuo)為(wei)抗(kang)刻(ke)蝕(shi)層保護襯(chen)底表面。光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)只是一種形象的(de)說法，因為(wei)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)從外(wai)觀(guan)上呈現為(wei)膠(jiao)狀液(ye)體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。