一、光刻膠是什么東西

光刻膠又稱光(guang)致抗(kang)蝕劑(ji)，是指通過(guo)紫外光(guang)、電子(zi)束、離子(zi)束、X射(she)線等的照射(she)或輻射(she)，其溶解度(du)發生(sheng)變化的耐(nai)蝕劑(ji)刻薄膜材(cai)料(liao)。由感光(guang)樹脂、增(zeng)感劑(ji)和溶劑(ji)3種主要成(cheng)分(fen)組成(cheng)的對光(guang)敏(min)感的混合液體。在(zai)光(guang)刻工(gong)(gong)藝過(guo)程中，用(yong)作抗(kang)腐蝕涂層材(cai)料(liao)。半導(dao)體材(cai)料(liao)在(zai)表面(mian)加工(gong)(gong)時，若采用(yong)適當的有選(xuan)擇性的光(guang)刻膠(jiao)，可在(zai)表面(mian)上得(de)到所需的圖像(xiang)。

二、光刻膠的作用

光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)是(shi)一(yi)大(da)類具(ju)有光(guang)(guang)敏化學作用(yong)(yong)（或對電(dian)子能量敏感）的(de)高(gao)分子聚合(he)物材料(liao)，是(shi)轉移(yi)紫外曝光(guang)(guang)或電(dian)子束曝照圖案的(de)媒介。光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)英文名為(wei)resist，又(you)翻譯為(wei)抗蝕劑、光(guang)(guang)阻等。光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)的(de)作用(yong)(yong)就是(shi)作為(wei)抗刻(ke)蝕層保(bao)護襯底表(biao)面。光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)只是(shi)一(yi)種形象的(de)說法，因(yin)為(wei)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)從外觀上呈(cheng)現為(wei)膠(jiao)狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當紫外光或電子束的照射時，光刻膠材料本身的特性會發生改變，經過顯影液顯影后，曝光的負性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會留在襯底表面，這樣就將設計的微納結構轉移到了光刻膠上，而后續的刻蝕、沉積等工藝，就可進一步將此圖案轉移到光刻膠下面的襯底上，最后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。