一、KrF光刻膠是什么

光刻膠根據(ju)不(bu)同(tong)的(de)曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)分為不(bu)同(tong)的(de)類型(xing)，曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)從寬(kuan)譜紫(zi)外線發展到I線（365nm）、KrF線（248nm）、ArF線（193nm）以及EUV（13.5nm）光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)，而不(bu)同(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)要求使用不(bu)同(tong)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)就(jiu)是運用KrF（248nm）曝(pu)(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)時(shi)所需要的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)。KrF光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)主要應用于0.13m以上線寬(kuan)，包含離子(zi)注入層，抗刻(ke)蝕層等多種工藝(yi)中(zhong)。

二、arf光刻膠是什么

ArF光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)，是半導體(ti)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)的(de)一(yi)種，屬(shu)于(yu)高(gao)(gao)端光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)，用來制造12英寸大硅片（硅晶圓）。在(zai)(zai)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)中，半導體(ti)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)技(ji)術(shu)(shu)壁(bi)壘最高(gao)(gao)；在(zai)(zai)半導體(ti)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)產(chan)品(pin)中，ArF光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)是技(ji)術(shu)(shu)含量(liang)最高(gao)(gao)的(de)產(chan)品(pin)之一(yi)。ArF光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)是第四代(dai)光(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)(jiao)，行業進入技(ji)術(shu)(shu)壁(bi)壘高(gao)(gao)，全球量(liang)產(chan)企業數量(liang)少(shao)。

三、krf光刻膠和arf光刻膠區別

krF光刻膠與ArF光刻膠都主要用于半導體領域，二者最大區別是光刻膠的(de)光源(yuan)波長不同，其(qi)中krf波長為(wei)248nm，arf波長為(wei)193nm，arf光刻(ke)(ke)膠的(de)分辨率更(geng)好，技術含(han)量更(geng)高。arf和krf都屬于(yu)深紫外(wai)光范疇(chou)，也都是duv光刻(ke)(ke)機應用(yong)光源(yuan)，但是光源(yuan)技術上相差一代。另外(wai)，由于(yu)光源(yuan)波長不同，krf光刻(ke)(ke)膠和arf光刻(ke)(ke)膠也不能(neng)通用(yong)。