一、光刻膠的種類有哪些

1、按照顯影效果不同，光刻膠分為正性光刻膠和負性光刻膠。

正性光刻膠的曝光部分溶于顯影劑，顯影時形成的圖形與掩膜版上的圖形相同。負性光(guang)刻膠(jiao)的(de)曝光(guang)部(bu)分(fen)則不溶(rong)于顯(xian)影劑，顯(xian)影時形成(cheng)的(de)圖形與掩膜版相反。兩者的生(sheng)產工藝流程基本一致，區別在于主要原材料不同。

2、按照化學結構不同，光(guang)(guang)刻膠可分(fen)為光(guang)(guang)聚合型(xing)、光(guang)(guang)分(fen)解型(xing)、光(guang)(guang)交聯型(xing)和化學放大型(xing)。

光(guang)聚(ju)合(he)型(xing)光(guang)刻膠采用(yong)烯類(lei)單體，在(zai)光(guang)作用(yong)下生(sheng)成(cheng)自由基，引發單體聚(ju)合(he)反應生(sheng)成(cheng)聚(ju)合(he)物，常用(yong)于負性(xing)光(guang)刻膠。

光(guang)分解型(xing)光(guang)刻膠(jiao)，采(cai)用含有重氮醌(kun)類化合物（DQN）材料(liao)作為感光(guang)劑，其經過光(guang)照(zhao)后，發生(sheng)光(guang)分解反應(ying)，可(ke)以(yi)制成正性(xing)光(guang)刻膠(jiao)。

光交(jiao)聯型光刻(ke)膠(jiao)采(cai)用(yong)聚乙(yi)烯醇月桂酸(suan)酯等作為(wei)光敏材料，在(zai)光作用(yong)下，形(xing)成不(bu)溶性的網狀結構，起到(dao)抗蝕作用(yong)，可制(zhi)成負性光刻(ke)膠(jiao)。

化學(xue)(xue)放大型(xing)光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)采用(yong)難(nan)以溶(rong)解的聚乙烯樹(shu)(shu)脂，使用(yong)光(guang)(guang)(guang)(guang)致酸劑(ji)（PAG）作為光(guang)(guang)(guang)(guang)引發劑(ji)，當光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)曝(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)后，曝(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)區域PAG產(chan)生酸，可(ke)作為后續熱烘焙工序的催化器，使得樹(shu)(shu)脂變得易于(yu)溶(rong)解。化學(xue)(xue)放大光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)曝(pu)光(guang)(guang)(guang)(guang)速遞是DQN光(guang)(guang)(guang)(guang)刻(ke)(ke)膠(jiao)(jiao)的10倍，對(dui)深紫(zi)外光(guang)(guang)(guang)(guang)源(yuan)具有良好的光(guang)(guang)(guang)(guang)學(xue)(xue)敏感(gan)性，同時具有高對(dui)比度，對(dui)高分辨(bian)率等優點。

3、按照下游應用領域不同，光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)可分為PCB光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、LCD光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)和(he)半(ban)導(dao)體光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)。

PCB光刻(ke)膠主要包括干膜光刻(ke)膠、濕(shi)膜光刻(ke)膠、光成像阻焊油墨。

LCD領域光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)主要包(bao)括彩色(se)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)和黑色(se)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、觸摸(mo)屏(ping)光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)、TFT-LCD光(guang)刻(ke)膠(jiao)(jiao)。

半導體(ti)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)根(gen)據(ju)對應波長可以分(fen)為紫(zi)(zi)外(wai)(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)（300-450nm）、深紫(zi)(zi)外(wai)(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)（160-280nm）、極紫(zi)(zi)外(wai)(wai)(wai)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)（EUV、13.5nm）、電子束(shu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)、離子束(shu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)、X射(she)線光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)。光(guang)(guang)(guang)刻(ke)膠(jiao)波長越(yue)短，加工分(fen)辨率越(yue)高。

二、光刻膠應用于哪些領域

光(guang)刻膠是一種常見的(de)(de)材料，廣泛應(ying)用(yong)于(yu)半(ban)導(dao)體、光(guang)電(dian)子(zi)(zi)、微(wei)電(dian)子(zi)(zi)、生物(wu)醫(yi)學等領域。它的(de)(de)主要(yao)作(zuo)用(yong)是在微(wei)電(dian)子(zi)(zi)制造過程中，用(yong)于(yu)制作(zuo)微(wei)型電(dian)路(lu)板、光(guang)學元件(jian)、生物(wu)芯片等微(wei)型器件(jian)。

在半導體制造中，光刻膠被用于制作芯片的圖形化圖案。首先，將光刻膠涂在硅片表面，然后使用光刻機將光刻膠暴露在紫外線下，使其(qi)形成所(suo)需的圖案。接著，通過化學腐蝕或離子注入等方法，將暴露出來的硅(gui)片(pian)進行(xing)加工，最終形成芯片(pian)的電路結構。

在光(guang)(guang)電子領(ling)域，光(guang)(guang)刻膠被用于制作光(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)元(yuan)件(jian)，如(ru)光(guang)(guang)柵(zha)、衍射(she)光(guang)(guang)柵(zha)、光(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)波導(dao)等(deng)。通過將光(guang)(guang)刻膠涂(tu)在光(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)元(yuan)件(jian)表(biao)面(mian)，然后使用光(guang)(guang)刻機進行暴(bao)露和加工，可以制作出高精度的(de)光(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)元(yuan)件(jian)，用于光(guang)(guang)通信(xin)、激(ji)光(guang)(guang)器、光(guang)(guang)學(xue)(xue)(xue)傳感器等(deng)領(ling)域。

在生物(wu)(wu)(wu)醫學領(ling)域，光刻(ke)膠(jiao)被用(yong)于制作生物(wu)(wu)(wu)芯片。生物(wu)(wu)(wu)芯片是一種(zhong)微型化的生物(wu)(wu)(wu)實驗平臺，可以用(yong)于分析(xi)、檢(jian)測、診斷(duan)等。通(tong)過將光刻(ke)膠(jiao)涂在芯片表面，然后使用(yong)光刻(ke)機進行暴(bao)露和加工(gong)，可以制作出微型通(tong)道、微型反應器(qi)等結構，用(yong)于生物(wu)(wu)(wu)實驗。

光刻膠在微電子、光電子、生物醫學等領域都有著廣泛的應用。它的高精度、高分辨率、可控性等特點，使得微型器件的制造更加精細化、高效化。隨著科技的不斷發展，光刻膠的應用(yong)也將不斷拓展，為人類(lei)帶來更多的科(ke)技創新(xin)和發(fa)展。