一、制造芯片一定要光刻機嗎

芯片生產是一定要光刻機的(de)(de)。光刻機(ji)(ji)是(shi)芯片制(zhi)造的(de)(de)核心設備之一。目前有(you)用(yong)于生(sheng)產的(de)(de)光刻機(ji)(ji)，有(you)用(yong)于LED制(zhi)造領域的(de)(de)光刻機(ji)(ji)，還有(you)用(yong)于封裝的(de)(de)光刻機(ji)(ji)。光刻機(ji)(ji)是(shi)采(cai)用(yong)類似(si)照片沖(chong)印的(de)(de)技(ji)術(shu)，然后把掩膜版上的(de)(de)精細(xi)圖形(xing)通(tong)過光線(xian)的(de)(de)曝(pu)光印制(zhi)到硅片上。

在(zai)加工芯片(pian)(pian)的(de)過(guo)(guo)程中，光刻機通過(guo)(guo)一系列的(de)光源能量、形狀(zhuang)控制手段，將光束透射過(guo)(guo)畫著線路圖(tu)的(de)掩模，經物鏡補償各(ge)種光學誤差，將線路圖(tu)成比例縮小后映射到硅片(pian)(pian)上，然后使(shi)用化學方法顯影，得到刻在(zai)硅片(pian)(pian)上的(de)電路圖(tu)。

光(guang)(guang)刻機是半(ban)導體行業最重要的(de)設備之一，是“沙(sha)子(zi)變芯片(pian)”最重要的(de)設備。離(li)開光(guang)(guang)刻機，玩不(bu)轉芯片(pian)，離(li)開高(gao)(gao)端光(guang)(guang)刻機，玩不(bu)轉高(gao)(gao)端芯片(pian)。目(mu)前，還沒有(you)替代設備能夠代替光(guang)(guang)刻機。

二、蝕刻機能代替光刻機嗎

蝕(shi)(shi)刻機(ji)不能(neng)代替光(guang)刻機(ji)。光(guang)刻機(ji)的(de)(de)精度(du)和難(nan)度(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)都(dou)比(bi)蝕(shi)(shi)刻機(ji)高出很多，在需要(yao)光(guang)刻機(ji)加工的(de)(de)時候(hou)蝕(shi)(shi)刻機(ji)有些不能(neng)辦到，并且蝕(shi)(shi)刻機(ji)的(de)(de)精度(du)十(shi)分(fen)籠統，而光(guang)刻機(ji)對精度(du)的(de)(de)要(yao)求(qiu)十(shi)分(fen)細致(zhi)，所以蝕(shi)(shi)刻機(ji)不能(neng)代替光(guang)刻機(ji)。

蝕刻機和光刻機無(wu)論是從工藝、流程、設備性能、精(jing)度等方面都(dou)有很大的區別，主(zhu)要區別如下：

光刻機的難度大(da)于蝕刻(ke)機，光刻(ke)機是把圖案印上去，而蝕刻(ke)機是根據(ju)打印的圖案去掉有無圖案的部(bu)分，將剩下的留下。