一、電鍍設備和真空覆膜設備的概述

電鍍設(she)備是通過電化(hua)學反應在物(wu)體表面沉積金屬或(huo)合(he)金膜(mo)的設(she)備，常(chang)用于金屬電鍍、化(hua)學鍍、酸洗(xi)、電解磨(mo)光(guang)等工藝。而真空覆膜(mo)設(she)備是通過真空技術在物(wu)體表面蒸發或(huo)濺射金屬膜(mo)、合(he)金膜(mo)、陶(tao)瓷(ci)膜(mo)、光(guang)學膜(mo)等的設(she)備，常(chang)用于電子(zi)元件、化(hua)妝(zhuang)品(pin)瓶(ping)蓋、鏡框、手(shou)表、手(shou)機殼等產品(pin)的表面處理(li)。

二、電鍍設備和真空覆膜設備的區別

1、工作原理的區別

電鍍設(she)備的(de)(de)工作原理是(shi)將帶電的(de)(de)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)屬(shu)離(li)子沉積到被(bei)電鍍物(wu)體上(shang)，形成具(ju)有一定厚度的(de)(de)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)屬(shu)或(huo)合(he)(he)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)膜(mo)(mo)。而真空覆膜(mo)(mo)設(she)備則是(shi)在真空條件(jian)下(xia)，將經加熱或(huo)被(bei)轟擊的(de)(de)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)屬(shu)源或(huo)化合(he)(he)物(wu)源釋放出的(de)(de)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)屬(shu)離(li)子、原子或(huo)分子沉積在被(bei)覆膜(mo)(mo)物(wu)體表(biao)面上(shang)，形成金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)屬(shu)膜(mo)(mo)、合(he)(he)金(jin)(jin)(jin)(jin)(jin)膜(mo)(mo)、陶瓷膜(mo)(mo)等。

2、技術特點的區別

（1）覆(fu)蓋(gai)面積：電鍍設備通常(chang)較小(xiao)，所以常(chang)用于制作精密零件和小(xiao)型(xing)(xing)產品。而真空(kong)覆(fu)膜設備有多種規格和類型(xing)(xing)，可以處(chu)理大型(xing)(xing)表面或多個小(xiao)表面。

（2）工藝(yi)復雜度：電(dian)鍍設備需(xu)要(yao)控制(zhi)液體電(dian)解(jie)質的濃度、溫度、PH值和(he)(he)攪拌速(su)度等(deng)，工藝(yi)復雜度較高，需(xu)要(yao)一定的化(hua)學知識和(he)(he)技能。而真(zhen)空覆膜(mo)設備的工藝(yi)比(bi)較簡單，只需(xu)控制(zhi)真(zhen)空度、沉積速(su)度、材料來源和(he)(he)表面清洗程度等(deng)。

（3）膜層均一性：電鍍設(she)備(bei)容易在角落和(he)凹坑等地(di)方堆積，形(xing)(xing)成不(bu)均勻的(de)膜層。而真空覆膜設(she)備(bei)通過(guo)(guo)蒸發(fa)或濺射形(xing)(xing)成的(de)膜層比較均勻，并且可以(yi)通過(guo)(guo)調整工藝參數(shu)使(shi)得膜層更加(jia)均一。

3、適用范圍的區別

電(dian)鍍(du)設備適用于鍍(du)鋅、鍍(du)鉻、鍍(du)銅、電(dian)解鎳、電(dian)解銀(yin)等金(jin)屬(shu)制(zhi)品表面的(de)(de)處(chu)理。而(er)真空覆膜設備則適用于各種(zhong)有(you)機玻璃、陶瓷制(zhi)品、塑料制(zhi)品、金(jin)屬(shu)制(zhi)品等表面的(de)(de)處(chu)理，可以制(zhi)作(zuo)出(chu)具有(you)鏡面效果的(de)(de)金(jin)屬(shu)膜或光學膜。

三、 電鍍設備和真空覆膜設備哪個好

真空鍍(du)(du)膜(mo)和電鍍(du)(du)各(ge)有優(you)缺(que)點(dian)(dian)。真空鍍(du)(du)膜(mo)優(you)點(dian)(dian)是其在涂(tu)層表面形(xing)成了均勻致密的(de)(de)鍍(du)(du)層，并且(qie)具有優(you)異的(de)(de)金(jin)屬光澤(ze)、硬度(du)和耐腐蝕能力；缺(que)點(dian)(dian)是生(sheng)產成本(ben)較高(gao)，依賴先進(jin)的(de)(de)真空蒸發技(ji)術。電鍍(du)(du)的(de)(de)優(you)點(dian)(dian)是其制作成本(ben)較低(di)，且(qie)可(ke)以在大(da)型機(ji)器(qi)中進(jin)行大(da)規模生(sheng)產；缺(que)點(dian)(dian)則(ze)是電鍍(du)(du)層相對較薄，容易因(yin)外部環境受損。

綜上所述(shu)，真空鍍膜和電鍍各有其獨特的工(gong)藝原(yuan)理、應用范(fan)圍、優缺點(dian)等特點(dian)。在具體應用時，需(xu)結合實際情況進行選擇。