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電鍍設備和真空覆膜設備的區別 電鍍設備和真空覆膜設備哪個好

本文章由注冊用戶 時代工業園 上傳提供 2025-03-19 評論 0
摘要:真空鍍膜是一種利用高真空鍍膜裝置,在金屬表面制備薄膜的技術。其中,所制備的膜層一般是由鎢、鉻、鉬、鎳等材料組成的。而電鍍是利用電化學原理,在金屬表面制備一層金屬薄膜的工藝。那么電鍍設備和真空覆膜設備的區別在哪里以及電鍍設備和真空覆膜設備哪個好呢?感興趣的小伙伴們趕緊點進來看看吧!

一、電鍍設備和真空覆膜設備的概述

電(dian)(dian)鍍設(she)(she)備(bei)是通(tong)過電(dian)(dian)化學反應在(zai)物體表面沉積金(jin)屬或合(he)金(jin)膜的設(she)(she)備(bei),常用(yong)于金(jin)屬電(dian)(dian)鍍、化學鍍、酸洗、電(dian)(dian)解磨光等(deng)工藝。而真空覆膜設(she)(she)備(bei)是通(tong)過真空技術(shu)在(zai)物體表面蒸發或濺射金(jin)屬膜、合(he)金(jin)膜、陶瓷膜、光學膜等(deng)的設(she)(she)備(bei),常用(yong)于電(dian)(dian)子(zi)元件、化妝(zhuang)品瓶蓋、鏡框(kuang)、手(shou)表、手(shou)機殼等(deng)產品的表面處理。

二、電鍍設備和真空覆膜設備的區別

1、工作原理的區別

電鍍(du)設備的工作原(yuan)理是將帶電的金(jin)屬(shu)(shu)離子沉積到被電鍍(du)物體上,形成具有一(yi)定(ding)厚(hou)度(du)的金(jin)屬(shu)(shu)或(huo)合(he)金(jin)膜。而真空覆膜設備則是在真空條件下,將經加熱(re)或(huo)被轟擊(ji)的金(jin)屬(shu)(shu)源或(huo)化合(he)物源釋放出的金(jin)屬(shu)(shu)離子、原(yuan)子或(huo)分子沉積在被覆膜物體表(biao)面上,形成金(jin)屬(shu)(shu)膜、合(he)金(jin)膜、陶瓷膜等。

2、技術特點的區別

(1)覆蓋面積:電鍍設備(bei)通常較小,所以(yi)常用于制作(zuo)精密(mi)零件和小型(xing)(xing)產品(pin)。而(er)真空覆膜(mo)設備(bei)有多(duo)種規格(ge)和類型(xing)(xing),可(ke)以(yi)處理(li)大型(xing)(xing)表面或多(duo)個小表面。

(2)工藝復(fu)雜度(du):電鍍設備需要(yao)控制液體電解(jie)質的(de)(de)濃度(du)、溫度(du)、PH值和(he)攪(jiao)拌速(su)(su)度(du)等,工藝復(fu)雜度(du)較高,需要(yao)一定的(de)(de)化學(xue)知(zhi)識和(he)技能。而真空覆(fu)膜(mo)設備的(de)(de)工藝比較簡單,只需控制真空度(du)、沉積速(su)(su)度(du)、材(cai)料來(lai)源和(he)表(biao)面(mian)清洗程度(du)等。

(3)膜層均(jun)(jun)一(yi)性:電(dian)鍍設備(bei)容易在角落和凹坑等地方堆積(ji),形(xing)成不均(jun)(jun)勻的膜層。而真空(kong)覆(fu)膜設備(bei)通過蒸發或(huo)濺射形(xing)成的膜層比較(jiao)均(jun)(jun)勻,并且可以通過調(diao)整工(gong)藝參(can)數使得膜層更加均(jun)(jun)一(yi)。

3、適用范圍的區別

電鍍(du)設備適(shi)用于(yu)(yu)鍍(du)鋅(xin)、鍍(du)鉻(ge)、鍍(du)銅、電解(jie)鎳、電解(jie)銀(yin)等(deng)金(jin)屬制品表面的(de)處理(li)。而真空覆(fu)膜(mo)設備則(ze)適(shi)用于(yu)(yu)各種(zhong)有機(ji)玻璃、陶瓷制品、塑(su)料制品、金(jin)屬制品等(deng)表面的(de)處理(li),可以制作出具有鏡面效(xiao)果的(de)金(jin)屬膜(mo)或光學膜(mo)。

三、 電鍍設備和真空覆膜設備哪個好

真(zhen)空(kong)鍍(du)膜和(he)(he)電鍍(du)各有(you)優(you)缺點。真(zhen)空(kong)鍍(du)膜優(you)點是其在涂層表面形成了均勻致(zhi)密的(de)鍍(du)層,并(bing)且具有(you)優(you)異的(de)金(jin)屬光澤、硬(ying)度(du)和(he)(he)耐腐(fu)蝕能力;缺點是生產成本較高,依賴先進(jin)的(de)真(zhen)空(kong)蒸發(fa)技術。電鍍(du)的(de)優(you)點是其制(zhi)作成本較低,且可以在大(da)型機器中進(jin)行大(da)規模生產;缺點則是電鍍(du)層相(xiang)對較薄,容易因外部(bu)環境(jing)受損。

綜上(shang)所(suo)述,真(zhen)空鍍(du)(du)膜和電(dian)鍍(du)(du)各有其(qi)獨特的工藝原理(li)、應(ying)用(yong)范圍、優缺點(dian)等特點(dian)。在具體應(ying)用(yong)時,需結合實(shi)際情(qing)況進行選(xuan)擇(ze)。

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