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半導體激光器結構中的勢壘是什么 半導體激光器產生激光的條件介紹

本文章由注冊用戶 時代工業園 上傳提供 2025-04-22 評論 0
摘要:半導體激光(Semiconductor laser)在1962年被成功激發,在1970年實現室溫下連續輸出。后來經過改良,開發出雙異質接合型激光及條紋型構造的激光二極管(Laser diode)等,廣泛使用于光纖通信、光盤、激光打印機、激光掃描器、激光指示器(激光筆),是目前生產量最大的激光器。接下來本文將帶來半導體激光器結構中的勢壘是什么以及半導體激光器產生激光的條件介紹,一起來看看吧!

一、半導體激光器結構中的勢壘是什么

一般在談到半導體的(de)PN結(jie)(jie)時,就會聯系到勢(shi)壘(lei)(lei),這(zhe)涉及(ji)半導體的(de)基礎內(nei)容。簡單地說,所(suo)謂勢(shi)壘(lei)(lei)也稱位(wei)壘(lei)(lei),就是在PN結(jie)(jie)由于電(dian)子、空穴(xue)的(de)擴散所(suo)形成(cheng)的(de)阻擋(dang)層,兩側的(de)勢(shi)能差,就稱為勢(shi)壘(lei)(lei)。

二、半導體激光器產生激光的條件介紹

半(ban)導體激光器產(chan)生(sheng)激光的條件主要包括以下(xia)幾點:

1、增益條件。需(xu)要在有源區(qu)(激射(she)媒質(zhi))內建(jian)立載流子(zi)(zi)的反轉(zhuan)分布,即在高能(neng)(neng)態(tai)導帶(dai)底(di)的電(dian)子(zi)(zi)數需(xu)要大(da)于低(di)(di)能(neng)(neng)態(tai)價帶(dai)頂的空(kong)穴數。這通常通過給同質(zhi)結或異質(zhi)結加正(zheng)向(xiang)偏壓來實現,從而將(jiang)電(dian)子(zi)(zi)從能(neng)(neng)量較低(di)(di)的價帶(dai)激發(fa)到能(neng)(neng)量較高的導帶(dai)。當(dang)電(dian)子(zi)(zi)和空(kong)穴在粒子(zi)(zi)數反轉(zhuan)狀(zhuang)態(tai)下(xia)復合(he)時,會(hui)產生受(shou)激發(fa)射(she)作用。

2、光學諧振腔。諧振(zhen)腔由半導體(ti)晶體(ti)的(de)(de)(de)(de)自然解(jie)理面形(xing)成反(fan)(fan)射(she)鏡,出光(guang)面通常鍍(du)有減反(fan)(fan)膜(mo),而不(bu)出光(guang)的(de)(de)(de)(de)那一端則鍍(du)上高反(fan)(fan)多(duo)層介質(zhi)膜(mo),形(xing)成F-P(法布(bu)里(li)-拍羅(luo))腔。這(zhe)樣的(de)(de)(de)(de)結構使得受激(ji)輻射(she)的(de)(de)(de)(de)光(guang)在腔內多(duo)次反(fan)(fan)饋,形(xing)成激(ji)光(guang)振(zhen)蕩。

3、滿足閾值條件。激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)媒質必須提供足夠(gou)的(de)增益,以(yi)彌補諧振(zhen)腔引起的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)損(sun)耗(hao)及激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)輸出(chu)引起的(de)損(sun)耗(hao)。這要求有(you)足夠(gou)強的(de)電流注入,即(ji)有(you)足夠(gou)的(de)粒(li)子(zi)數反轉。當激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)器(qi)達到閾值時,具有(you)特定(ding)波長(chang)的(de)光(guang)(guang)(guang)(guang)就能在(zai)腔內(nei)諧振(zhen)并被(bei)放大,形成(cheng)激(ji)(ji)光(guang)(guang)(guang)(guang)并連續輸出(chu)。

此外(wai),半導體激光器(qi)產生激光還需要(yao)滿足相位條件,以(yi)(yi)及具有(you)良好的散熱措施,以(yi)(yi)保證(zheng)激光器(qi)的穩定性和壽(shou)命(ming)。

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