一、靶材是什么材料
靶(ba)材(cai)是(shi)通過磁控濺(jian)射(she)、多弧離子鍍或其他(ta)類型的(de)鍍膜系(xi)統在適當工藝條件下濺(jian)射(she)在基板上形成各種功(gong)能(neng)薄膜的(de)濺(jian)射(she)源。簡單說的(de)話，靶(ba)材(cai)就是(shi)高速(su)荷能(neng)粒子轟擊的(de)目標材(cai)料，用(yong)于高能(neng)激光武器中，不(bu)同功(gong)率密度、不(bu)同輸(shu)出(chu)波形、不(bu)同波長的(de)激光與不(bu)同的(de)靶(ba)材(cai)相互作用(yong)時，會產生不(bu)同的(de)殺傷破壞(huai)效(xiao)應(ying)。例如：蒸發磁控濺(jian)射(she)鍍膜是(shi)加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不(bu)同的(de)靶(ba)材(cai)（如鋁、銅、不(bu)銹鋼、鈦、鎳(nie)靶(ba)等），即可得到不(bu)同的(de)膜系(xi)（如超(chao)硬、耐(nai)磨、防腐的(de)合金膜等）。
二、靶材的用途
1、用于顯示器上
靶(ba)(ba)(ba)材目前被普遍應用于平面(mian)顯示器（FPD)上(shang)。近年(nian)來，平面(mian)顯示器在市場(chang)上(shang)的應用率逐年(nian)增高，同(tong)時也帶動了ITO靶(ba)(ba)(ba)材的技(ji)術與(yu)市場(chang)需求(qiu)。ITO靶(ba)(ba)(ba)材有兩種(zhong)(zhong)，一(yi)種(zhong)(zhong)是采(cai)用銦錫合(he)金靶(ba)(ba)(ba)材，另外一(yi)種(zhong)(zhong)是采(cai)用納米狀(zhuang)態的氧化銦和氧化錫粉混合(he)后燒(shao)結。
2、用于微電子領域
靶材也被(bei)應用于半導體(ti)(ti)產業(ye)，相(xiang)對來說(shuo)半導體(ti)(ti)產業(ye)對于靶材濺射薄(bo)膜的品質(zhi)要求(qiu)(qiu)(qiu)是(shi)比(bi)較苛刻(ke)的。現在12英寸（300衄口）的硅晶片也被(bei)制(zhi)作出(chu)來，但是(shi)互連(lian)線的寬度卻在減(jian)小(xiao)。目前(qian)硅片制(zhi)造商對于靶材的要求(qiu)(qiu)(qiu)都是(shi)大尺寸、高(gao)純度、低(di)偏析以及細晶粒等，對其(qi)品質(zhi)要求(qiu)(qiu)(qiu)比(bi)較高(gao)，這就要求(qiu)(qiu)(qiu)靶材需要具有更好的微觀結構。
3、用于存儲技術上
存儲技(ji)術行業對于靶(ba)材的(de)(de)(de)(de)需(xu)求量(liang)很(hen)大(da)(da)，高密度、大(da)(da)容(rong)量(liang)硬盤(pan)的(de)(de)(de)(de)發(fa)展(zhan)，離不開大(da)(da)量(liang)的(de)(de)(de)(de)巨(ju)磁(ci)(ci)(ci)阻(zu)薄膜材料，CoF~Cu多層(ceng)復合膜是(shi)如今應用(yong)比(bi)較(jiao)廣泛的(de)(de)(de)(de)巨(ju)磁(ci)(ci)(ci)阻(zu)薄膜結構。磁(ci)(ci)(ci)光盤(pan)需(xu)要的(de)(de)(de)(de)TbFeCo合金(jin)靶(ba)材還(huan)在進一(yi)步發(fa)展(zhan)，用(yong)它制(zhi)造出來的(de)(de)(de)(de)磁(ci)(ci)(ci)光盤(pan)有著使用(yong)壽命長、存儲容(rong)量(liang)大(da)(da)以及可(ke)反復無(wu)接(jie)觸擦寫的(de)(de)(de)(de)特點。
三、靶材的分類有哪些
1、根據不同材質劃分
（1）金屬靶材
鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ni、鈦靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ti、鋅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zn、鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cr、鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mg、鈮靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Nb、錫(xi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Sn、鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Al、銦(yin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)In、鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Fe、鋯鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)ZrAl、鈦鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)TiAl、鋯靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Zr、鋁(lv)硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)AlSi、硅(gui)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Si、銅(tong)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Cu、鉭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ta、鍺靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ge、銀(yin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ag、鈷靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Co、金靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Au、釓靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Gd、鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)La、釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Y、鈰(shi)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Ce、不銹鋼靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鎳(nie)(nie)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)NiCr、鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Hf、鉬靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)Mo、鐵鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)FeNi、鎢(wu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、W等。
（2）陶瓷靶材
ITO靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鐵靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、碳(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉻靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硫化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、一氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，、二(er)(er)氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鉿靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼(peng)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，二(er)(er)硼(peng)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋯(gao)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎢(wu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，三氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鉭(tan)，五氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)二(er)(er)鈮(ni)(ni)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎂靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氟(fu)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)釔靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、硒(xi)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋅(xin)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鋁(lv)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硼(peng)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，氮(dan)(dan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鈦(tai)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，碳(tan)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)硅靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)，鈮(ni)(ni)酸(suan)鋰靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鐠(pu)靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鋇靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、鈦(tai)酸(suan)鑭靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、氧(yang)(yang)(yang)化(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)(hua)鎳靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)、濺(jian)射靶(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)(ba)材等。
（3）合金靶材
鐵鈷靶(ba)(ba)FeCo、鋁硅(gui)靶(ba)(ba)AlSi、鈦硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鉻硅(gui)靶(ba)(ba)CrSi、鋅(xin)鋁靶(ba)(ba)ZnAl、鈦鋅(xin)靶(ba)(ba)材TiZn、鈦鋁靶(ba)(ba)TiAl、鈦鋯靶(ba)(ba)TiZr、鈦硅(gui)靶(ba)(ba)TiSi、鈦鎳(nie)(nie)靶(ba)(ba)TiNi、鎳(nie)(nie)鉻靶(ba)(ba)NiCr、鎳(nie)(nie)鋁靶(ba)(ba)NiAl、鎳(nie)(nie)釩靶(ba)(ba)NiV、鎳(nie)(nie)鐵靶(ba)(ba)NiFe等。
2、根據不同應用方向劃分
（1）半導體關聯靶材
電極、布線薄(bo)膜：鋁靶(ba)(ba)材，銅靶(ba)(ba)材，金(jin)靶(ba)(ba)材，銀靶(ba)(ba)材，鈀靶(ba)(ba)材，鉑靶(ba)(ba)材，鋁硅合(he)金(jin)靶(ba)(ba)材，鋁硅銅合(he)金(jin)靶(ba)(ba)材等。
儲存器電極薄膜(mo)：鉬靶材(cai)，鎢靶材(cai)，鈦靶材(cai)等(deng)。
粘附薄膜：鎢靶材(cai)，鈦靶材(cai)等(deng)。
電(dian)容器絕緣膜薄膜：鋯鈦酸(suan)鉛(qian)靶材等(deng)。
（2）磁記錄靶材
垂直磁記錄(lu)薄膜：鈷(gu)鉻(ge)合金靶材等。
硬(ying)盤用(yong)薄膜(mo)：鈷(gu)鉻(ge)鉭合金(jin)靶材，鈷(gu)鉻(ge)鉑(bo)合金(jin)靶材，鈷(gu)鉻(ge)鉭鉑(bo)合金(jin)靶材等。
薄膜磁頭(tou)：鈷鉭(tan)鉻合金(jin)靶材，鈷鉻鋯合金(jin)靶材等(deng)。
人(ren)工晶體(ti)薄(bo)膜：鈷(gu)鉑合(he)(he)金靶材(cai)，鈷(gu)鈀合(he)(he)金靶材(cai)等。
（3）光記錄靶材
相(xiang)變(bian)光(guang)盤記錄(lu)薄膜：硒化碲(di)靶(ba)材(cai)，硒化銻靶(ba)材(cai)，鍺(zang)銻碲(di)合(he)金靶(ba)材(cai)，鍺(zang)碲(di)合(he)金靶(ba)材(cai)等。
磁(ci)光盤記錄薄膜：鏑(di)鐵(tie)鈷(gu)合金(jin)靶(ba)(ba)材，鋱鏑(di)鐵(tie)合金(jin)靶(ba)(ba)材，鋱鐵(tie)鈷(gu)合金(jin)靶(ba)(ba)材，氧(yang)化(hua)鋁(lv)靶(ba)(ba)材，氧(yang)化(hua)鎂靶(ba)(ba)材，氮化(hua)硅靶(ba)(ba)材等(deng)。
四、靶材的性能和指標
靶材制(zhi)約著濺鍍薄膜的(de)物理，力學性能，影響鍍膜質量，因而要求(qiu)靶材的(de)制(zhi)備應滿足以(yi)下要求(qiu)：
1、純度：要求雜質含量低純度高，靶材的(de)(de)純(chun)(chun)度(du)(du)影響薄膜的(de)(de)均勻性(xing)，以純(chun)(chun)Al靶(ba)(ba)為(wei)(wei)例(li)，純(chun)(chun)度(du)(du)越高，濺射Al膜的(de)(de)耐蝕性(xing)及(ji)電(dian)學(xue)、光學(xue)性(xing)能越好。不(bu)(bu)(bu)過不(bu)(bu)(bu)同(tong)用(yong)途的(de)(de)靶(ba)(ba)材對純(chun)(chun)度(du)(du)要求(qiu)(qiu)也不(bu)(bu)(bu)同(tong)，一般工業用(yong)靶(ba)(ba)材純(chun)(chun)度(du)(du)要求(qiu)(qiu)不(bu)(bu)(bu)高，但(dan)就半(ban)導體(ti)、顯示器件等領(ling)域用(yong)靶(ba)(ba)材對純(chun)(chun)度(du)(du)要求(qiu)(qiu)是十分(fen)嚴格的(de)(de)，磁性(xing)薄膜用(yong)靶(ba)(ba)材對純(chun)(chun)度(du)(du)的(de)(de)要求(qiu)(qiu)一般為(wei)(wei)99.9%以上，ITO中(zhong)的(de)(de)氧化銦(yin)以及(ji)氧化錫的(de)(de)純(chun)(chun)度(du)(du)則要求(qiu)(qiu)不(bu)(bu)(bu)低(di)于99.99%。
2、雜(za)(za)質(zhi)含(han)量：靶(ba)材(cai)作為濺射中的(de)(de)(de)陰極源，固體(ti)中的(de)(de)(de)雜(za)(za)質(zhi)和(he)氣孔中的(de)(de)(de)O2和(he)H2O是沉(chen)積薄(bo)膜的(de)(de)(de)主要(yao)(yao)污(wu)染源，不(bu)同用途的(de)(de)(de)靶(ba)材(cai)對單個雜(za)(za)質(zhi)含(han)量的(de)(de)(de)要(yao)(yao)求(qiu)也不(bu)同，如(ru)：半導(dao)體(ti)電(dian)極布線用的(de)(de)(de)W，Mo，Ti等靶(ba)材(cai)對U，Th等放射性元素的(de)(de)(de)含(han)量要(yao)(yao)求(qiu)低(di)于(yu)3*10-9，光盤(pan)反射膜用的(de)(de)(de)Al合(he)金靶(ba)材(cai)則要(yao)(yao)求(qiu)O2的(de)(de)(de)含(han)量低(di)于(yu)2*10-4。
3、高致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度：為了減少靶(ba)材(cai)(cai)中的(de)氣孔，提高薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)性能一(yi)般要求靶(ba)材(cai)(cai)具有較(jiao)高的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度，靶(ba)材(cai)(cai)的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度不(bu)僅影響(xiang)濺(jian)射(she)時的(de)沉積速(su)率(lv)、濺(jian)射(she)膜(mo)(mo)(mo)粒(li)子的(de)密(mi)(mi)度和放電(dian)(dian)現象(xiang)等(deng)(deng)，還影響(xiang)濺(jian)射(she)薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)電(dian)(dian)學(xue)和光學(xue)性能。致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)性越好(hao)，濺(jian)射(she)膜(mo)(mo)(mo)粒(li)子的(de)密(mi)(mi)度越低(di)，放電(dian)(dian)現象(xiang)越弱(ruo)。高致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度靶(ba)材(cai)(cai)具有導(dao)電(dian)(dian)、導(dao)熱性好(hao)，強度高等(deng)(deng)優點，使(shi)用這種靶(ba)材(cai)(cai)鍍膜(mo)(mo)(mo)，濺(jian)射(she)功率(lv)小，成膜(mo)(mo)(mo)速(su)率(lv)高，薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)不(bu)易開裂，靶(ba)材(cai)(cai)的(de)使(shi)用壽(shou)命長，且濺(jian)鍍薄(bo)膜(mo)(mo)(mo)的(de)電(dian)(dian)阻率(lv)低(di)，透光率(lv)高。靶(ba)材(cai)(cai)的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度主(zhu)要取決于(yu)制備(bei)工藝。一(yi)般而(er)言，鑄造(zao)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度高而(er)燒(shao)結(jie)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度相對較(jiao)低(di)，因此提高靶(ba)材(cai)(cai)的(de)致(zhi)(zhi)密(mi)(mi)度是(shi)燒(shao)結(jie)制備(bei)靶(ba)材(cai)(cai)的(de)技術(shu)關鍵之一(yi)。
4、成(cheng)分(fen)與組(zu)(zu)織結構均勻(yun)，靶材成(cheng)分(fen)均勻(yun)是(shi)鍍膜(mo)質量(liang)穩定的重要保(bao)證(zheng)，尤其是(shi)對于復(fu)相結構的合(he)金靶材和混合(he)靶材。如ITO，為了保(bao)證(zheng)膜(mo)質量(liang)，要求靶中(zhong)In2O3-SnO2組(zu)(zu)成(cheng)均勻(yun)，都(dou)為93：7或91：9（分(fen)子比）。
5、晶(jing)粒(li)尺(chi)寸細(xi)小，靶材的晶(jing)粒(li)尺(chi)寸越(yue)細(xi)小，濺鍍薄膜的厚度分布(bu)越(yue)均(jun)勻，濺射速率(lv)越(yue)快。
