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真空滅弧室行業前景怎么樣 真空滅弧室的發展趨勢分析

本文章由注冊用戶 時代工業園 上傳提供 2025-05-22 評論 0
摘要:真空滅弧室在電力領域應用廣泛,我國真空滅弧室行業起步較晚,但推廣速度較快,隨著我國對智能電網的重點投資,真空滅弧室行業擁有穩定且廣闊的市場前景,未來真空滅弧室的發展主要呈現小型化、低成本和高電壓三大發展趨勢。下面一起來看看真空滅弧室行業前景怎么樣以及真空滅弧室的發展趨勢分析吧。

一、真空滅弧室行業前景怎么樣

真空滅弧室又被稱作為真空開關管,是中高壓電力開關的核心部件,廣泛應用于電力的輸配電控制系統。我國真空滅弧室行業市(shi)場應(ying)用時間雖然較(jiao)晚,但推廣速度較(jiao)快,相關產品的(de)應(ying)用已(yi)逐(zhu)漸進入(ru)成熟期。

未來在我國對智能電網的重點投資的背景(jing)下,我國真(zhen)空滅(mie)弧室行(xing)業(ye)將穩定(ding)增長,未來整體增速約為4%左右;并且隨著未來對高壓(ya)交(jiao)流真(zhen)空滅(mie)弧室的市場(chang)需(xu)求將進一步擴大,高壓(ya)交(jiao)流真(zhen)空滅(mie)弧室市場(chang)前景(jing)廣(guang)闊。

二、真空滅弧室的發展趨勢分析

當(dang)前真(zhen)空(kong)開關正(zheng)向著(zhu)更高電壓等(deng)級的(de)(de)方向發展,因此真(zhen)空(kong)滅弧(hu)室(shi)內部絕緣(yuan)結構的(de)(de)合理(li)設計成為重要(yao)的(de)(de)研究(jiu)課題之一,未來真(zhen)空(kong)滅弧(hu)室(shi)的(de)(de)發展主要(yao)呈現以(yi)下幾大趨勢:

1、小型化

真(zhen)空(kong)(kong)(kong)電弧理論的發展和(he)內部(bu)電場優化使(shi)真(zhen)空(kong)(kong)(kong)滅(mie)弧室體(ti)積更(geng)小(xiao);復合絕緣技術的應用使(shi)真(zhen)空(kong)(kong)(kong)滅(mie)弧室結(jie)構尺寸大(da)大(da)減小(xiao);真(zhen)空(kong)(kong)(kong)斷(duan)路器(qi)機械(xie)特(te)性的改進、同步(bu)開斷(duan)技術和(he)高(gao)性能觸頭材料的應用使(shi)真(zhen)空(kong)(kong)(kong)滅(mie)弧室“升級”,使(shi)用成為可能。

真(zhen)空(kong)滅弧(hu)室(shi)(shi)的小型化工作不(bu)論在國內還是(shi)在國外已(yi)經進行了很多(duo)年,并已(yi)取得了一定的成效,如德國Calor-Emag公司新研制成的VC2型真(zhen)空(kong)斷路器,其12kV、20kA的真(zhen)空(kong)滅弧(hu)室(shi)(shi)的觸頭(tou)直(zhi)徑僅(jin)為40mm,12kV、50kA真(zhen)空(kong)滅弧(hu)室(shi)(shi)的觸頭(tou)直(zhi)徑為80mm。

2、低成本

真(zhen)空滅弧(hu)室的(de)(de)小型化(hua)保證了(le)低(di)成本(ben)實現的(de)(de)可能。在(zai)近20年的(de)(de)時間里,國(guo)產(chan)真(zhen)空滅弧(hu)室的(de)(de)體(ti)積減小了(le)50%,價格降(jiang)低(di)了(le)70%左(zuo)右,其中(zhong)有生產(chan)廠(chang)家提高工藝水平(如(ru)一次封排工藝的(de)(de)普遍采(cai)用),提高生產(chan)效率和降(jiang)低(di)生產(chan)成本(ben)的(de)(de)努力,也(ye)與觸(chu)頭(tou)、波紋管(guan)、陶(tao)瓷殼等零件成本(ben)的(de)(de)降(jiang)低(di)密(mi)切相關。

3、高電壓

隨(sui)著真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)開關(guan)(guan)制造技術和理論研究(jiu)水(shui)平的不斷提高,真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)開關(guan)(guan)的發(fa)展(zhan)(zhan)已在嘗試著向高電壓大容量方(fang)向發(fa)展(zhan)(zhan)。美國通用電氣公司(si)1980年后生產(chan)出(chu)了(le)168kV/40kA的雙斷口真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)斷路器(qi)(qi),日本明電舍公司(si)1980年開始生產(chan)145kV/31.5kA單斷口真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)斷路器(qi)(qi),日本東(dong)芝公司(si)1987年研制成功了(le)145kV/31.5kA單斷口真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)滅弧室(shi)及(ji)168kV雙斷口真(zhen)(zhen)空(kong)(kong)(kong)斷路器(qi)(qi)。

此外,日本三菱公司已研制成功270kV單斷口真空滅弧室,并(bing)且準備發(fa)展500kV雙斷(duan)口真空(kong)斷(duan)路(lu)器(qi),一(yi)旦研制(zhi)成(cheng)功,估計其(qi)造價比同電壓等級的六(liu)氟(fu)化硫斷(duan)路(lu)器(qi)低。國內目前(qian)已(yi)有北京開(kai)(kai)關(guan)(guan)廠(chang)和(he)西安高壓開(kai)(kai)關(guan)(guan)廠(chang)研制(zhi)的126kV真空(kong)斷(duan)路(lu)器(qi)(均采用日本明電舍真空(kong)滅弧室)一(yi)次(ci)通(tong)過了全部型式試驗(yan)并(bing)完(wan)成(cheng)鑒定。

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