中科院長春光(guang)學精密機械(xie)與物(wu)理研究所研究人(ren)員開(kai)發了(le)一種新型(xing)飛(fei)秒激(ji)光(guang)等離子激(ji)元光(guang)刻技(ji)術(shu)（FPL）。利用該技(ji)術(shu)，研究人(ren)員在百納米(mi)厚(hou)的(de)硅(gui)基氧化石墨烯薄膜表面實現了(le)高質量微(wei)納周期(qi)結構(gou)的(de)快(kuai)速制備，首(shou)次證明(ming)了(le)FPL技(ji)術(shu)在二維薄膜材料上能(neng)夠實現大面積高質量亞微(wei)米(mi)周期(qi)結構(gou)的(de)快(kuai)速制備。

在此之前，在石墨(mo)烯上制備微納(na)結構的(de)技術(shu)有自(zi)組裝、電子束刻蝕和極紫外光刻等，但這(zhe)些技術(shu)存在著耗(hao)時長(chang)、成本高、缺乏通用(yong)性等問題。

FPL技術加(jia)工(gong)過(guo)程不(bu)易受材(cai)料(liao)表面(mian)缺陷、雜(za)質等因素的影響，加(jia)工(gong)基底也不(bu)易受到材(cai)料(liao)種(zhong)類的限制。加(jia)工(gong)材(cai)料(liao)表現(xian)出(chu)了(le)優異的機械(xie)性(xing)(xing)能(neng)，可以利用傳統的濕轉移(yi)法(fa)進(jin)行完(wan)整轉移(yi)。這(zhe)為相關材(cai)料(liao)周期性(xing)(xing)微納結構的靈活制備奠定(ding)了(le)基礎。