一、光刻機和芯片有什么關系

光刻機又被稱為掩膜對準曝光機，在芯片生產中用于光刻工藝，而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步，所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備，總得來說光刻機是用來制造芯片的。

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機是(shi)(shi)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)術的載體(ti)，而光(guang)(guang)(guang)刻(ke)技(ji)術是(shi)(shi)芯片技(ji)術的重要(yao)部分，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機的原理就是(shi)(shi)用(yong)光(guang)(guang)(guang)把圖(tu)案投射到硅(gui)片上。如果(guo)想要(yao)自主(zhu)生(sheng)產芯片，光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機是(shi)(shi)必要(yao)的，就像工業中的機床一樣(yang)。

光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)與(yu)芯片存在(zai)著密不(bu)可分的(de)(de)關(guan)系。芯片與(yu)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)的(de)(de)關(guan)系，就好比是(shi)魚和水(shui)。沒了光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)，再高端(duan)的(de)(de)芯片技術也只能停(ting)留在(zai)理想層面。目前，世界最高端(duan)的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)來自(zi)(zi)荷(he)蘭，相信不(bu)久之后中國也能擁有獨立(li)自(zi)(zi)主的(de)(de)光(guang)(guang)(guang)刻(ke)機(ji)技術。

二、光刻機和芯片哪個更難

都(dou)很(hen)難(nan)(nan)的(de)。因(yin)為(wei)芯片(pian)從設計到(dao)生產制(zhi)造都(dou)是一個(ge)復雜工藝，目前國(guo)內(nei)，芯片(pian)設計軟件和生產核心光刻機(ji)都(dou)是國(guo)外(wai)的(de)。不過光刻機(ji)難(nan)(nan)度(du)最大，因(yin)為(wei)再好的(de)設計也需要做出來才能算成功，而且還要保持良品率。

以我們(men)掌(zhang)握程度為難易判(pan)斷標準，我們(men)掌(zhang)握了就(jiu)不(bu)算難，沒掌(zhang)握的(de)就(jiu)算難。

芯(xin)片(pian)設(she)計(ji)，手機(ji)通(tong)信我們有華為(wei)，中興，展銳等。通(tong)用桌面服務器(qi)有龍芯(xin)，華為(wei)，申威等。我們已經具有完整的正向(xiang)設(she)計(ji)能力，部(bu)分芯(xin)片(pian)設(she)計(ji)已經接近頂(ding)尖水平，差距一(yi)代不到。

芯(xin)片制造(zao)，中芯(xin)國際(ji)量產14納(na)米，有(you)望突破(po)7納(na)米。華虹半導體(ti)也已經初步量產14納(na)米。跟最先(xian)進的臺積(ji)電和三星半導體(ti)比還有(you)很大的差(cha)距，差(cha)距一代多。

光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)(ji)，我們可以完全自主量產(chan)(chan)90納米(mi)光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)(ji)。現在(zai)最(zui)先進的極(ji)紫(zi)外光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)(ji)只有(you)荷蘭ASML能夠供貨，我們跟ASML差(cha)了三代。根據(ju)公開信(xin)息(xi)，我們28納米(mi)光(guang)刻(ke)機(ji)(ji)(ji)關鍵部(bu)件已(yi)經全部(bu)完成攻關，今年(nian)(nian)底有(you)望出整機(ji)(ji)(ji)樣機(ji)(ji)(ji)，兩(liang)(liang)年(nian)(nian)內量產(chan)(chan)。28納米(mi)現在(zai)世界上(shang)有(you)兩(liang)(liang)個國家(jia)量產(chan)(chan)，荷蘭和日本。我們今年(nian)(nian)如(ru)果能夠踏入這個陣營，差(cha)距縮小到一代。

綜合起來，光刻機差(cha)距(ju)現在最大，是最難的。但不管什么(me)技(ji)術，只要持續不斷的投入(ru)，不被眼前的困(kun)難嚇倒，培養人才梯隊，追(zhui)趕和(he)超越是遲早的。