電子顯微鏡和光學顯微鏡的區別

1、照明源不同

電(dian)子(zi)(zi)(zi)顯微(wei)鏡(jing)(jing)所用的(de)照明源是電(dian)子(zi)(zi)(zi)槍發(fa)出的(de)電(dian)子(zi)(zi)(zi)流，而光(guang)學(xue)顯微(wei)鏡(jing)(jing)的(de)照明源是可見(jian)光(guang)(日光(guang)或燈光(guang))，由(you)于(yu)電(dian)子(zi)(zi)(zi)流的(de)波長遠短于(yu)光(guang)波波長，故電(dian)子(zi)(zi)(zi)顯微(wei)鏡(jing)(jing)的(de)放(fang)大(da)及分(fen)辨(bian)率顯著地高于(yu)光(guang)鏡(jing)(jing)。

2、透鏡不同

電子顯(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中起放大作用的(de)物鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)是電磁(ci)透(tou)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)(能(neng)在中央部位產(chan)生磁(ci)場的(de)環形電磁(ci)線(xian)圈)，而(er)光學顯(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)的(de)物鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)則是玻(bo)璃磨制而(er)成的(de)光學透(tou)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)。電子顯(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中的(de)電磁(ci)透(tou)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)共有三組，分(fen)別與光學顯(xian)(xian)微(wei)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)中聚光鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)、物鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)和目鏡(jing)(jing)(jing)(jing)(jing)的(de)功能(neng)相當。

3、成像原理不同

在電(dian)子(zi)(zi)顯微鏡中(zhong)(zhong)，作用(yong)(yong)于被(bei)檢樣品(pin)的(de)(de)電(dian)子(zi)(zi)束經電(dian)磁透鏡放(fang)大后打到熒光(guang)屏上成像(xiang)(xiang)(xiang)或作用(yong)(yong)于感光(guang)膠片成像(xiang)(xiang)(xiang)。其電(dian)子(zi)(zi)濃淡的(de)(de)差(cha)別(bie)產生的(de)(de)機理是(shi)，電(dian)子(zi)(zi)束作用(yong)(yong)于被(bei)檢樣品(pin)，入射(she)電(dian)子(zi)(zi)與(yu)物質的(de)(de)原子(zi)(zi)發生碰(peng)撞產生散(san)射(she)，由于樣品(pin)不同部(bu)位對電(dian)子(zi)(zi)有不同散(san)射(she)度(du)，故(gu)樣品(pin)電(dian)子(zi)(zi)像(xiang)(xiang)(xiang)以濃淡呈(cheng)(cheng)現(xian)。而光(guang)學顯微鏡中(zhong)(zhong)樣品(pin)的(de)(de)物像(xiang)(xiang)(xiang)以亮度(du)差(cha)呈(cheng)(cheng)現(xian)，它是(shi)由被(bei)檢樣品(pin)的(de)(de)不同結構吸收(shou)光(guang)線多少的(de)(de)不同所造(zao)成的(de)(de)。

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4、分辨率

光(guang)學顯微(wei)鏡(jing)因為(wei)光(guang)的(de)干涉(she)與衍射作(zuo)用(yong)，分辨率(lv)只(zhi)能局限于02-05um之間(jian)(jian)。電子(zi)顯微(wei)鏡(jing)因為(wei)采(cai)用(yong)電子(zi)束作(zuo)為(wei)光(guang)源，其分辨率(lv)可達(da)到(dao)1-3nm之間(jian)(jian)，因此(ci)光(guang)學顯微(wei)鏡(jing)的(de)組織(zhi)觀察屬于微(wei)米級(ji)分析，電子(zi)顯微(wei)鏡(jing)的(de)組織(zhi)觀測(ce)屬于納米級(ji)分析。

5、景深

一般(ban)光學(xue)顯(xian)微(wei)鏡的(de)(de)景深(shen)(shen)在2-3um之間(jian)，因此對樣品的(de)(de)表面光滑程(cheng)度(du)具有極(ji)高的(de)(de)要求，所以制(zhi)樣過程(cheng)相對比(bi)(bi)較(jiao)復雜(za)。掃描電(dian)鏡的(de)(de)精神則可(ke)高達幾(ji)(ji)個毫米，因此對樣品表面的(de)(de)光滑程(cheng)度(du)幾(ji)(ji)何(he)沒有任何(he)要求，樣品制(zhi)備比(bi)(bi)較(jiao)簡單，有些樣品幾(ji)(ji)何(he)無需(xu)制(zhi)樣。體式顯(xian)微(wei)鏡雖然也具有比(bi)(bi)較(jiao)大(da)的(de)(de)景深(shen)(shen)，但其(qi)分辨率卻(que)非常的(de)(de)低(di)。

6、所用標本制備方式不同

電子顯微(wei)鏡(jing)觀(guan)察所用組織細(xi)(xi)胞(bao)標(biao)本(ben)(ben)(ben)的(de)制(zhi)備程序(xu)較(jiao)復雜，技術難度和(he)費用都(dou)較(jiao)高，在(zai)取材、固(gu)定、脫水和(he)包埋(mai)等環節上需要特殊的(de)試劑和(he)操作，最后還需將包埋(mai)好的(de)組織塊放人超薄(bo)切片(pian)機切成(cheng)50～100nm厚(hou)的(de)超薄(bo)標(biao)本(ben)(ben)(ben)片(pian)。而光鏡(jing)觀(guan)察的(de)標(biao)本(ben)(ben)(ben)則一(yi)般(ban)置于載玻片(pian)上，如普通組織切片(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)、細(xi)(xi)胞(bao)涂片(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)、組織壓(ya)片(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)和(he)細(xi)(xi)胞(bao)滴片(pian)標(biao)本(ben)(ben)(ben)。

7、應用領域

光學顯微鏡主(zhu)(zhu)要用(yong)(yong)于(yu)(yu)光滑表(biao)(biao)(biao)面的(de)(de)(de)(de)(de)微米級(ji)組(zu)織(zhi)觀(guan)(guan)察(cha)(cha)(cha)與測量(liang)，因(yin)(yin)(yin)為采用(yong)(yong)可(ke)見光作為光源(yuan)因(yin)(yin)(yin)此不僅能(neng)觀(guan)(guan)察(cha)(cha)(cha)樣(yang)品(pin)表(biao)(biao)(biao)層(ceng)組(zu)織(zhi)而(er)且在表(biao)(biao)(biao)層(ceng)以下的(de)(de)(de)(de)(de)一定范圍內的(de)(de)(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)同(tong)樣(yang)也可(ke)被觀(guan)(guan)察(cha)(cha)(cha)到，并且光學(xue)顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)對(dui)于(yu)(yu)色彩的(de)(de)(de)(de)(de)識(shi)別(bie)非常敏感和準確。電(dian)(dian)子顯(xian)微鏡(jing)(jing)(jing)(jing)主(zhu)(zhu)要用(yong)(yong)于(yu)(yu)納米級(ji)的(de)(de)(de)(de)(de)樣(yang)品(pin)表(biao)(biao)(biao)面形貌觀(guan)(guan)測，因(yin)(yin)(yin)為掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)是依靠物理(li)信號(hao)的(de)(de)(de)(de)(de)強度來區分(fen)組(zu)織(zhi)信息的(de)(de)(de)(de)(de)，因(yin)(yin)(yin)此掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)的(de)(de)(de)(de)(de)圖像都(dou)是黑(hei)白的(de)(de)(de)(de)(de)，對(dui)于(yu)(yu)彩色圖像的(de)(de)(de)(de)(de)識(shi)別(bie)掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)顯(xian)得無能(neng)為力。掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)不僅可(ke)以觀(guan)(guan)察(cha)(cha)(cha)樣(yang)品(pin)表(biao)(biao)(biao)面的(de)(de)(de)(de)(de)組(zu)織(zhi)形貌，通過(guo)使用(yong)(yong)EDS、WDS、EBSD等不同(tong)的(de)(de)(de)(de)(de)附件設備(bei)，掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)還可(ke)進一步擴展使用(yong)(yong)功(gong)能(neng)。通過(guo)使用(yong)(yong)EDS、WDS輔助(zhu)設備(bei)，掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)可(ke)以對(dui)微區化學(xue)成分(fen)進行(xing)分(fen)析，這一點在失效分(fen)析研(yan)究領域由為重要。使用(yong)(yong)EBSD，掃(sao)描(miao)電(dian)(dian)鏡(jing)(jing)(jing)(jing)可(ke)以對(dui)材料的(de)(de)(de)(de)(de)晶(jing)格取向(xiang)進行(xing)研(yan)究。

8、放大倍數

光學顯微(wei)鏡有效(xiao)放(fang)大倍(bei)數1000X。電子顯微(wei)鏡有效(xiao)放(fang)大倍(bei)數可達到1000,000X 。