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著錄信息

  • 專利名稱:實現一次曝光雙能減影的方法、雙能過濾板和成像設備
  • 專利類型:發明
  • 申請號:CN200910000721.1
  • 公開(公告)號:CN101455573B
  • 申請日:20090108
  • 公開(公告)日:20110202
  • 申請人:深圳市安健科技有限公司
  • 發明人:羅海林,杜碧,萬洪曉
  • 申請人地址:518000 廣東省深圳市南山區蛇口水灣大廈501、503號
  • 申請人區域代碼:CN440305
  • 專利權人:深圳市安健科技有限公司
  • 洛迦諾分類:
  • IPC:A61B6/03,G03B42/02
  • 優先權:
  • 專利代理機構:北京英特普羅知識產權代理有限公司 11015
  • 代理人:孫麗芳
  • 審查員:邢偉
  • 國際申請:
  • 國際公開(公告):
  • 進入國家日期:
  • 分案申請:

關鍵詞

圖像處理單元,高低能量,過濾板,接收板,圖像,骨骼,低能量圖像,成像領域,成像設備,加權系數,能量圖像,數字圖像,條狀物質,圖像配置,組織圖像,曝光,再進入,插值,穿透,合并
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