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著錄信息(xi)

專利名稱：X射線發生裝置以及具有該裝置的X射線透視成像系統
專利類型：發明
申請號：CN201310741400.3
公開(公告)號：CN104754848B
申請日：20131230
公開(公告)日：20171208
申請人：同方威視技術股份有限公司,清華大學
發明人：唐華平,唐傳祥,陳懷璧
申請人地址：100084 北京市海淀區雙清路同方大廈A座2層
申請人區域代碼：CN110108
專利權人：同方威視技術股份有限公司,清華大學
洛迦諾分類：無
IPC：H05G1/08
優先權：無
專利代理機構：中國專利代理(香港)有限公司 72001
代理人：閆小龍;王忠忠
審查員：韓光皓
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

電子加速,屏蔽結構,電子發射單元,準直器,電子束流轟擊,電子加速器,電子束流,準直裝置,屏蔽,靶點,轟擊,包圍

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