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著(zhu)錄信息

專利名稱：紫外光刻機曝光系統用精密介質膜反射鏡
專利類型：實用新型
申請號：CN201520656862.X
公開(公告)號：CN204903941U
申請日：20150828
公開(公告)日：20151223
申請人：沈陽儀表科學研究院有限公司
發明人：宋光輝,姚春龍,王銀河,劉新華,戰俊生,李文龍,雷鵬
申請人地址：110043 遼寧省沈陽市大東區北海街242號
申請人區域代碼：CN210104
專利權人：沈陽儀表科學研究院有限公司
洛迦諾分類：無
IPC：G03F7/20,G02B5/08,G02B1/10,C23C14/08,C23C14/28
優先權：無
專利代理機構：沈陽亞泰專利商標代理有限公司 21107
代理人：郭元藝
審查員：無
國際申請：無
國際公開(公告)：無
進入國家日期：無
分案申請：無

關鍵詞

低折射率膜,鍍膜材料層,高折射率,交替疊置,非球面,非周期,多層,材料層,內表面,半導體集成電路制造,介質膜反射鏡,紫外光刻機,光學特性,機械強度,膜層表面,曝光系統,日常維護,使用周期,吸收損失,沉積于,膜沉積,實用,層數,劃痕,料層,一種,沉積,精密,清潔,涉及,穩定

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