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ICRD
  • 企業名稱: 上海集成電(dian)路研發中心有(you)限公司
  • 發源地: 上海市
  • 創立時間: 2002年
  • 企業領導: *

上海(hai)集(ji)(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)研(yan)(yan)(yan)發(fa)中(zhong)心有(you)限公司(ICRD)成(cheng)立于2002年,是國家支持組建(jian)、產學研(yan)(yan)(yan)合(he)作的集(ji)(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)研(yan)(yan)(yan)發(fa)中(zhong)心。ICRD由中(zhong)國集(ji)(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)相關(guan)企業集(ji)(ji)團和高(gao)校聯(lian)合(he)投資組建(jian)而成(cheng),是一(yi)個獨立的面(mian)向全行業集(ji)(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)企業、大(da)學及研(yan)(yan)(yan)究所開放的公共研(yan)(yan)(yan)發(fa)機構。

上(shang)(shang)海集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)研(yan)發(fa)中心聚焦集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)主流技術路(lu)線(xian),致力于解決重大共性技術的(de)研(yan)發(fa)及服(fu)務(wu)支撐問(wen)題,并為自(zi)主可控(kong)產(chan)(chan)業鏈建設(she)(she)提(ti)供(gong)公共的(de)裝(zhuang)備和(he)(he)材(cai)料(liao)驗(yan)證(zheng)平臺。ICRD的(de)主要功能(neng)包括:為集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)企業和(he)(he)研(yan)發(fa)單位提(ti)供(gong)前端器件及工(gong)(gong)藝技術的(de)前期研(yan)發(fa)和(he)(he)產(chan)(chan)品級驗(yan)證(zheng);為集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)裝(zhuang)備和(he)(he)材(cai)料(liao)提(ti)供(gong)研(yan)制到上(shang)(shang)線(xian)的(de)驗(yan)證(zheng)和(he)(he)工(gong)(gong)藝配套(tao);為集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)生產(chan)(chan)線(xian)升級提(ti)供(gong)知識產(chan)(chan)權和(he)(he)技術轉移(yi);為國內設(she)(she)計企業研(yan)制芯片提(ti)供(gong)特色工(gong)(gong)藝和(he)(he)共享IP核服(fu)務(wu);為企業及高校提(ti)供(gong)培(pei)養(yang)集(ji)成(cheng)電(dian)路(lu)技術人才和(he)(he)高技能(neng)人才的(de)實訓基(ji)地。

上海(hai)集成電(dian)路研發(fa)中(zhong)心位(wei)于上海(hai)市張(zhang)江(jiang)高(gao)科技(ji)(ji)園區,地理位(wei)置毗鄰(lin)華力微(wei)電(dian)子和(he)(he)(he)中(zhong)芯國際(ji)。ICRD建有(you)(you)12英(ying)寸(cun)開(kai)放式集成電(dian)路工藝(yi)研發(fa)和(he)(he)(he)裝備材料試驗平臺(tai),凈化(hua)面積(ji)超過3000平方米,研發(fa)環境(jing)及管(guan)理系統和(he)(he)(he)大生產(chan)線匹配,可(ke)實現硅片無沾污進(jin)出和(he)(he)(he)工藝(yi)流程無縫銜接,加快了技(ji)(ji)術研發(fa)和(he)(he)(he)驗證速(su)度。ICRD擁有(you)(you)浸(jin)沒(mei)式193nm光(guang)刻(ke)機(ji)、硅刻(ke)蝕(shi)機(ji)、原子層薄膜生長(ALD)、高(gao)能(neng)離(li)子注入機(ji)以及全套(tao)銅互連和(he)(he)(he)Low-K等工藝(yi)設備,工藝(yi)研發(fa)能(neng)力可(ke)達14納米以下。

上海(hai)集成電(dian)路研發(fa)中心擁有(you)一(yi)批來(lai)自(zi)(zi)國際研發(fa)機構和(he)跨國公司的研究人員,并通過國內(nei)外產業合作持續(xu)培養和(he)鍛煉了(le)(le)一(yi)支擁有(you)自(zi)(zi)主工藝技術提升能(neng)力的研發(fa)隊(dui)伍,為中國集成電(dian)路產業的自(zi)(zi)主可控(kong)持續(xu)發(fa)展提供了(le)(le)中堅(jian)力量。ICRD掌(zhang)握了(le)多個技術(shu)(shu)代的(de)工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)技術(shu)(shu)和(he)知(zhi)識(shi)產(chan)(chan)權,為(wei)中國(guo)集(ji)成(cheng)電路生產(chan)(chan)線的(de)建(jian)設提供了(le)多套技術(shu)(shu)轉移和(he)服務;通過設立產(chan)(chan)業界共性技術(shu)(shu)研(yan)發(fa)項目,進(jin)行FinFET器(qi)件及工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)、FDSOI關鍵工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)、5nm以下納米(mi)線晶體管(guan)等新器(qi)件和(he)工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)技術(shu)(shu)的(de)聯合(he)(he)研(yan)發(fa);開展產(chan)(chan)學(xue)研(yan)合(he)(he)作,研(yan)發(fa)STT-MRAM、晶體管(guan)級(ji)3D堆疊、量子點傳(chuan)感(gan)器(qi)、類神經元晶體管(guan)等前(qian)沿技術(shu)(shu)和(he)產(chan)(chan)品;通過以精湛工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)帶動裝(zhuang)(zhuang)備(bei)和(he)材料(liao)研(yan)發(fa)評價的(de)方式(shi),為(wei)國(guo)產(chan)(chan)光刻(ke)(ke)機、刻(ke)(ke)蝕機、銅互連、光刻(ke)(ke)膠(jiao)、大硅片等裝(zhuang)(zhuang)備(bei)和(he)材料(liao)提供驗證和(he)工(gong)藝(yi)(yi)(yi)(yi)配套,推動供應(ying)鏈的(de)國(guo)產(chan)(chan)化。

本企業品牌頁面圖文信息由 CN107063 整理匯編上傳,最近更新時間:2023-09-29 評論
工商/經營信息

基本信息

企業名稱
上海集成電路研發中心有限公司
企業地址
上海市市轄區浦東新區張江高科技園區高斯路497號

工商信息

統一社會信用代碼
91310115745635158X
注冊資本
30060萬元
成立日期
2003-12-16
登記狀態
在營企業
發證機關
自由貿易試驗區市場監管局
核準日期
2023-01-20
執照有效期
2003-12-16 ~ 2023-12-15
企業類型
有限責任公司(國有控股)
企業高管/名人
趙 * 航
經營范圍
芯片的制造、銷售,集成電路設計及銷售,相關領域內的技術開發、技術咨詢、技術服務、技術轉讓,投資,國內貿易(除專項審批),從事貨物與技術的進出口業務。【依法須經批準的項目,經相關部門批準后方可開展經營活動】
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